Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO3) Sputtering Target Description
Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO₃) 스퍼터링 타겟은 다양한 스퍼터링 응용 분야에서 뛰어난 성능을 발휘하도록 설계되었습니다. 순도 ≥99%를 달성하기 위한 엄격한 품질 관리 조건 하에 제조되며, 다양한 기판에 신뢰할 수 있는 박막 증착을 위해 설계되었습니다. 맞춤형 형태와 높은 용융점 및 밀도와 같은 강력한 물리적 특성 덕분에 정밀성과 일관성을 요구하는 연구 및 산업 공정에 적합한 선택입니다.
Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO3) Sputtering Target Applications
· 반도체 제조: 반도체 장치에서 고품질 박막을 생산하기 위해 최적화되었습니다.
· 코팅 기술: 강력하고 균일한 코팅을 증착하기 위한 스퍼터링 시스템에 적합합니다.
· 고급 소재 연구: 실험적 증착 공정을 위한 신뢰할 수 있는 매체를 제공합니다.
· 표면 공학: 다양한 산업 분야에서 정밀 박막 응용을 가능하게 합니다.
Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO3) Sputtering Target Packing
Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO₃) 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 중 품질을 유지하기 위해 안전하게 포장됩니다. 특정 고객 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 포장 옵션이 제공되어, 제품이 최적의 상태로 즉시 사용이 가능하도록 배송됩니다.
Frequently Asked Questions
Q: Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO3) 스퍼터링 타겟의 주요 산업 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 제조, 박막 코팅 공정 및 고순도와 신뢰할 수 있는 증착이 중요한 고급 소재 연구에 사용됩니다.
Q: Lanthanum Niobium Oxide (LaNbO3) 스퍼터링 타겟은 어떻게 제조되나요?
A: 이 타겟은 스퍼터링 응용 분야에서 신뢰할 수 있는 성능을 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 하에 정밀 엔지니어링 기술을 사용하여 생산됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태를 맞춤형으로 제작할 수 있나요?
A: 예, 제품은 표준 원형 형태로 제공되거나 특정 설계 및 응용 요구 사항에 맞게 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 주요 물리적 특성은 무엇인가요?
A: 약 1,630℃의 용융점과 약 7.1 g/cm³의 밀도를 가지고 있어 고온 응용 및 강력한 물질 특성이 필요한 공정에 적합합니다.
Q: 스퍼터링 타겟을 운송 중 보호하기 위해 포장은 어떻게 설계되었나요?
A: 타겟은 신중하게 포장되며, 고객의 특정 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 포장 옵션이 제공되어 보관 및 운송 중에 제품의 무결성을 유지합니다.