란탄바나듐 산화물 (LaVO3) 스퍼터링 타겟 설명
란탄바나듐 산화물 (LaVO3) 스퍼터링 타겟은
고급 박막 증착 및 표면 코팅 응용을 위해 개발된 프리미엄 소재입니다. 정밀하게 제조된 이 타겟은 높은 구조적 무결성과 안정성을 보장하여 고성능 산업 공정에 적합한 선택이 됩니다.
엄격한 품질 기준을 충족하도록 제작된 이 타겟은 RF, RF-R, DC 모드를 사용하여 일관된 스퍼터링 성능을 제공합니다. 높은 순도 및 맞춤 제작 옵션을 통해 사용자는 반도체 장치 제조, 태양 전지 및 기타 최첨단 기술 분야에서 우수한 필름 균일성과 향상된 제품 신뢰성을 달성할 수 있습니다.
란탄바나듐 산화물 (LaVO3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 고급 전자 장치용 균일하고 높은 품질의 박막을 생성하는 데 도움이 됩니다.
· 반도체 제조: 반도체 제조에서 정밀한 구성품 생산에 적합합니다.
· 표면 코팅: 산업 도구 및 기계의 마모 저항 및 부식 방지를 향상시킵니다.
· 연구 및 개발: 재료 과학 및 응용 물리학의 고급 R&D 작업을 지원합니다.
란탄바나듐 산화물 (LaVO3) 스퍼터링 타겟 포장
당사 스퍼터링 타겟은 제품 무결성을 유지하기 위해 제어된 조건에서 포장됩니다. 각 타겟은 신중하게 진공 포장되며, 특정 응용 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤 크기로 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 이 타겟은 어떤 스퍼터링 모드를 지원하나요?
A: 이 타겟은 RF, RF-R, DC 스퍼터링을 지원하여 다양한 증착 기술에 대한 다재다능함을 제공합니다.
Q: 이 타겟은 특정 요구 사항에 맞게 맞춤 제작이 가능한가요?
A: 네, 이 타겟은 특수 응용 요구에 맞는 맞춤형 모양 및 크기로 제공됩니다.
Q: 란탄바나듐 산화물 스퍼터링 타겟이 가장 적합한 응용 분야는 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 표면 코팅, 재료 과학의 고급 R&D에서 박막 증착에 적합합니다.
Q: 타겟의 높은 순도가 스퍼터링 과정에 어떤 이점을 주나요?
A: 높은 순도 (≥99%)는 일관된 필름 품질, 개선된 증착 효율 및 가공 중 오염 최소화를 보장합니다.
Q: 포장 과정에서 타겟의 품질을 유지하기 위해 어떤 조치가 취해지나요?
A: 타겟은 진공 포장되며, 생산에서 최종 사용까지 무결성과 성능을 유지하기 위해 제어된 조건에서 취급됩니다.