납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟 설명
납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟은 고순도 및 안정성을 위한 최적화된 조성을 통해 뛰어난 성능을 제공하는 최신 세라믹 가공 방법으로 설계되었습니다. 이 타겟은 커패시터, 센서, 압전 변환기 및 메모리 장치 제작에 적합합니다. 일관된 품질은 첨단 산업의 엄격한 작동 조건에서도 신뢰할 수 있는 성능을 보장합니다.
납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 커패시터, 센서 및 변환기와 같은 마이크로전자 장치 제작에 필수적입니다.
· 강유전체 장치: 비휘발성 메모리 장치 및 압전 응용에 광범위하게 사용됩니다.
· 표면 코팅: 반도체 제조에서 고품질의 균일한 필름을 생산하는 데 적용됩니다.
· 연구 개발: 고급 소재 특성을 탐구하기 위해 학술 및 산업 R&D에서 선호됩니다.
납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟 포장
저희 납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟은 고순도 및 성능 유지를 위해 포장됩니다.
진공 밀봉 포장: 5kg 단위의 백 또는 25kg 단위의 드럼으로 제공되며, 안전하고 오염 없는 운송을 보장합니다.
자주 묻는 질문
Q: 납 란타넘 지르코늄 타이타늄 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 무엇입니까?
A: 주로 마이크로전자 구성요소, 강유전체 장치 및 고급 센서 응용을 위한 박막 증착 과정에 사용됩니다.
Q: 타겟의 고순도(≥99%)가 성능에 미치는 영향은 무엇입니까?
A: 고순도는 최적의 전기적 및 기계적 특성을 보장하여 고정밀 박막 및 마이크로전자 응용에서 신뢰성 및 성능을 향상시킵니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟에 대해 맞춤형 형태와 크기를 제공합니까?
A: 예, 제품은 표준 디스크 형태로 제공되며 특정 요구 사항에 맞게 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: 일반적으로 이 스퍼터링 타겟을 사용하는 산업은 어디입니까?
A: 반도체, 마이크로전자 및 연구 부문에서 광범위하게 사용되며, 고급 강유전체 소재가 필요한 응용에서도 사용됩니다.
Q: 이 타겟을 사용한 스퍼터링 과정에서 고려해야 할 사항은 무엇입니까?
A: 작업자는 타겟의 높은 열 안정성을 고려하여 스퍼터링 매개변수를 조정하여 최적의 필름 품질 및 효율적인 소재 활용을 보장해야 합니다.