몰리브덴 산화물 (MoO₃) 스퍼터링 타겟 설명
몰리브덴 산화물 (MoO₃) 스퍼터링 타겟은 중요한 산업 응용 분야에서 고성능 스퍼터링 프로세스를 위해 설계되었습니다. 정확한 기준에 따라 제조된 이 타겟은 정밀한 박막 증착을 위한 우수한 일관성과 순도를 제공합니다. 이 제품의 강력한 특성으로 반도체 제조, 디스플레이 생산 및 다양한 코팅 기술에 이상적인 선택입니다.
몰리브덴 산화물 (MoO₃) 스퍼터링 타겟 용도
· 반도체 제작: 집적 회로 및 마이크로 전자 장치에 필수적인 균일한 박막을 제공합니다.
· 디스플레이 기술: 투명 전도성 필름 및 기타 디스플레이 구성 요소의 증착에 사용됩니다.
· 표면 코팅: 산업 응용 분야에서 부식 방지 및 마모 방지 코팅을 생성하는 데 이상적입니다.
· 연구 및 개발: 고급 재료 연구 및 새로운 코팅 프로세스를 위한 실험 세트업에 사용됩니다.
몰리브덴 산화물 (MoO₃) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 몰리브덴 산화물 (MoO₃) 스퍼터링 타겟은 품질과 성능을 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다.
진공 밀봉 포장은 저장 및 운송 중에 보호를 보장합니다. 맞춤형 포장 옵션은 요청 시 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 스퍼터링 타겟이란 무엇인가요?
A: 스퍼터링 프로세스에서 기판에 박막을 증착하기 위해 타겟을 에너지 입자로 폭격하는 데 사용되는 물질 원천입니다.
Q: 왜 MoO₃가 스퍼터링 타겟에 사용되나요?
A: MoO₃는 높은 순도, 화학적 안정성 및 우수한 스퍼터링 성능을 제공하여 정밀 코팅 응용 분야에 적합합니다.
Q: "RF 스퍼터"란 무엇인가요?
A: RF 스퍼터링은 스퍼터링 프로세스를 위한 플라즈마를 생성하기 위해 라디오 주파수 에너지를 사용하는 것으로, 고립체 또는 전도성이 낮은 타겟에 적합합니다.
Q: 타겟은 맞춤형으로 제작이 가능한가요?
A: 네, 타겟은 특정 산업 요구 사항에 따라 원형 또는 맞춤형 모양으로 제공됩니다.
Q: MoO₃의 밀도가 성능에 어떤 영향을 미치나요?
A: 4.69 g/cm³의 밀도는 일관된 스퍼터링 비율 및 최적의 필름 품질을 보장하여 신뢰할 수 있는 실험 및 생산 결과에 기여합니다.