산화 니켈(NiO) 스퍼터링 타겟 설명
산화 니켈(NiO) 스퍼터링 타겟은 고급 스퍼터링 애플리케이션을 위해 설계된 고성능 소재입니다. 순도 ≥99%로 제조되어 중요한 산업 공정에 필수적인 안정적이고 일관된 박막 증착을 보장합니다. 표준 디스크 모양 또는 맞춤형 구성으로 제공되는 이 타겟은 RF-R 스퍼터링에 최적화되어 있어 균일한 에너지 분포와 효율적인 박막 형성을 보장합니다. 융점이 1955℃이고 밀도가 6.67g/cm³인 이 타겟은 극한의 작동 조건을 견딜 수 있어 반도체, 광학 및 표면 코팅 산업에 이상적인 선택입니다.
니켈 산화물(NiO) 스퍼터링 타겟 응용 분야
- 반도체 제조: 전자 장치, 센서 및 태양 전지를 위한 고품질 박막을 제공합니다.
- 광학 코팅: 광학 특성이 제어된 고급 코팅 생산에 이상적입니다.
- 에너지 장치: 배터리, 연료 전지 및 기타 에너지 시스템용 부품 제조에 유용합니다.
- 연구 및 개발: 혁신적인 스퍼터링 기술 개발 및 재료 연구를 위한 신뢰할 수 있는 재료로 사용됩니다.
산화 니켈(NiO) 스퍼터링 타겟 포장
당사의 산화 니켈(NiO) 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 중에 순도와 구조적 무결성을 유지하기 위해 세심하게 포장됩니다. 타겟은 고객의 특정 요구 사항을 충족하는 맞춤형 포장으로 진공 밀봉되어 배송 시 최적의 보호와 성능을 보장합니다.
자주 묻는 질문
Q: 이 타겟에 RF-R 스퍼터링의 장점은 무엇입니까?
A: RF-R 스퍼터링은 타겟 전체에 보다 균일한 전력 분배가 가능하여 절연 재료에도 일관된 박막 증착이 가능합니다.
Q: NiO 타겟의 고순도(≥99%)가 스퍼터링 애플리케이션에 어떤 이점이 있나요?
A: 고순도는 증착된 필름의 불순물을 최소화하여 고성능 애플리케이션을 위한 더 나은 전기적, 광학적, 기계적 특성을 보장합니다.
Q: 타겟을 다양한 크기와 모양으로 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 예, 표준 디스크 모양 외에도 특정 공정 요구 사항을 충족하기 위해 산화 니켈(NiO) 스퍼터링 타겟을 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟을 사용하기에 가장 적합한 산업은 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 광학 코팅, 에너지 장치 및 첨단 연구 실험실과 같은 산업은 당사의 고성능 NiO 타겟의 이점을 크게 누릴 수 있습니다.
Q: 배송 중 품질을 유지하려면 타겟을 어떻게 취급해야 하나요?
A: 타겟은 운송 중 오염, 물리적 손상 및 환경적 요인으로부터 보호하도록 설계된 특수 포장에 진공 밀봉되어 있습니다.
사양
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사양
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세부 정보
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재질
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니켈 산화물
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구성
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NiO
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녹는점
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1955℃
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밀도
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6.67 g/cm³
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스퍼터
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RF-R
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결합 유형
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인듐, 엘라스토머
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사용 가능한 크기
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맞춤형
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*위의 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 하며 참고용으로만 제공됩니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.