산화티타늄(Ti2O3) 스퍼터링 타겟 설명
산화티타늄(Ti2O3) 스퍼터링 타겟은 현대 박막 증착 공정의 요구를 충족하도록 정밀하게 설계되었습니다. 고순도(≥99%)와 정밀도를 중시하여 제조된 이 스퍼터링 타겟은 표준 디스크로 제공되며, 특정 산업 사양에 맞춰 맞춤 제작될 수 있습니다. 약 2130℃의 용융점과 4.49 g/cm³의 밀도를 가진 이 재료는 첨단 코팅 및 반도체 산업에서의 고온 어플리케이션에 최적화되어 있습니다. 뛰어난 성능과 재현성을 제공하도록 설계된 우리의 스퍼터링 타겟은 다양한 첨단 기술 응용 분야에서 신뢰할 수 있는 일관된 박막 형성을 지원합니다.
산화티타늄(Ti2O3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 반도체 장치, 광학 코팅 및 마이크로 전자 부품 제작에 필수적입니다.
· 고급 코팅: 산업 부문 전반에 걸쳐 내마모성 고온 코팅 생산에 사용됩니다.
· 연구 개발: 재료 과학 및 공학 연구의 실험 설정에 이상적입니다.
· 전자 부품 제조: 현대 전자 및 센서 장치에 필요한 증착 공정을 지원합니다.
산화티타늄(Ti2O3) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 산화티타늄(Ti2O3) 스퍼터링 타겟은 최적의 보존 및 취급 용이성을 보장하기 위해 고객 사양에 따라 포장됩니다. 표준 포장 방법에는 재료의 무결성을 유지하기 위한 진공 밀봉 및 맞춤형 포장 구성이 포함됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 산화티타늄(Ti2O3)이 스퍼터링 타겟에 적합한 재료인 이유는 무엇인가요?
A: 높은 순도(≥99%), 높은 용융점 및 강력한 물리적 성질이 고온 증착 공정에서 일관된 성능을 보장합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태는 맞춤 제작이 가능한가요?
A: 네, 스퍼터링 타겟은 표준 디스크 및 특정 응용 요구 사항에 맞춘 맞춤형 형태로 제공됩니다.
Q: 약 2130℃의 높은 용융점이 스퍼터링 응용 분야에 어떤 이점을 제공하나요?
A: 높은 용융점은 증착 과정에서의 강한 열 스트레스를 견디게 하여 내구성과 성능 안정성을 보장합니다.
Q: 인듐 본드는 이러한 스퍼터링 타겟에서 어떤 역할을 하나요?
A: 인듐 본드는 타겟 재료와 백킹 플레이트 간의 연결 강도를 강화하여 열 전달과 전체 타겟 성능을 개선합니다.
Q: 어떤 산업에서 산화티타늄 스퍼터링 타겟이 일반적으로 사용되나요?
A: 반도체 제조, 광학 코팅 생산, 첨단 전자 및 박막 증착에 집중하는 연구 실험실에서 널리 사용됩니다.