바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟 설명
바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟은 고급 박막 증착 공정에 대한 뛰어난 성능을 제공합니다. 순도 ≥99%로 제조되며, 디스크 또는 맞춤형 구성 등 다양한 형태로 설계되어 이 스퍼터링 타겟은 RF 스퍼터링 동안 균일한 물질 분포와 안정성을 보장합니다. 690℃의 용융점과 3.36 g/cm³의 밀도와 같은 뛰어난 물질 특성 덕분에 반도체, 태양광 및 디스플레이 기술 산업에서 폭넓은 응용에 적합합니다.
바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟 응용
· 반도체 제조: 마이크로 전자 부품 제조에 사용되는 RF 스퍼터링 공정에 필수적입니다.
· 디스플레이 기술: 고해상도 디스플레이 및 광학 장치를 위한 박막 증착에 사용됩니다.
· 태양광: 태양 전지 제작의 성능 및 효율성을 향상시킵니다.
· 고급 코팅 응용: 광학 코팅 및 센서 기술을 위한 우수한 재료 품질을 제공합니다.
바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟 포장
저희의 바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 제품 무결성과 순도를 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다.
- 진공 밀폐 포장은 최적의 보호를 보장합니다.
- 고객의 특정 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 포장 옵션도 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: 바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟을 사용할 때의 장점은 무엇인가요?
A: 높은 순도와 균일성을 제공하여 일관된 박막 증착과 RF 스퍼터링 공정에서 우수한 성능을 보장합니다.
Q: 이 타겟과 함께 RF 스퍼터링 공정은 어떻게 작동하나요?
A: RF 스퍼터링은 라디오 주파수 전력을 사용하여 플라즈마를 생성하고, 타겟에서 입자를 이탈시켜 기판에 증착하여 박막을 형성합니다.
Q: 타겟은 맞춤형 형태로 제조될 수 있나요?
A: 예, 표준 디스크 외에도 특정 응용 프로그램 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 물질 밀도가 스퍼터링 과정에 어떤 영향을 미치나요?
A: 3.36 g/cm³의 밀도는 안정적이고 일관된 스퍼터링 성능에 기여하여 증착 과정에서 균일한 물질 제거를 보장합니다.
Q: 어떤 산업이 바나듐 산화물 (V2O5) 스퍼터링 타겟을 가장 많이 활용하나요?
A: 반도체 제조, 태양광 셀 생산, 고급 디스플레이 기술 및 전문 코팅 응용 분야에서 널리 사용됩니다.