산화 아연과 알루미나 (ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟 설명
산화 아연과 알루미나 (ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟은 현대 스퍼터링 및 박막 증착 과정에서의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 순도 수준이 ≥99%인 이 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며, 특정 산업 요구 사항에 맞게 맞춤 제작 가능합니다. 녹는 점이 ~2000℃이고 밀도가 ~5.5-5.7 g/cm³인 이 조합은 고온 작동 중 탁월한 안정성과 균일성을 제공합니다. 인듐 및 엘라스토머를 포함한 선택된 결합 옵션은 다양한 스퍼터링 시스템과의 성능 및 호환성을 향상시킵니다.
산화 아연과 알루미나 (ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 마이크로 전자기기, 광학 코팅 및 정밀 장치 제작에 적합합니다.
· 반도체 제조: 칩 생산에서 균일하고 고품질의 박막을 제작하는 데 사용됩니다.
· 고급 코팅 공정: 디스플레이, 센서 및 태양 전지에서의 표면 수정에 적합합니다.
· 연구 및 개발: 실험 및 프로토타입 박막 응용 프로그램을 위한 안정적인 성능을 제공합니다.
산화 아연과 알루미나 (ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟 포장
산화 아연과 알루미나 (ZnO/Al2O3) 스퍼터링 타겟은 디스크 형태로 제공되거나 프로젝트 사양에 따라 맞춤 제작됩니다. 각 단위는 제품의 완전성과 최적의 성능을 보장하기 위해 신중하게 포장됩니다.
자주 묻는 질문
Q: ZnO/Al₂O₃ 스퍼터링 타겟에 가장 적합한 응용 분야는 무엇인가요?
A: 마이크로 전자기기, 광학, 반도체 제조 및 고급 코팅 응용 분야의 박막 증착에 적합합니다.
Q: 제품의 높은 순도 (≥99%)는 생산 중 어떻게 유지되나요?
A: 우리는 제품이 지속적으로 ≥99% 순도 요구 사항을 충족하도록 엄격한 품질 관리 프로토콜과 고급 제조 공정을 사용합니다.
Q: 스퍼터링 타겟은 표준 디스크 형태 외에 맞춤 제작이 가능한가요?
A: 네, 표준 디스크 형태 외에도 특정 치수 및 요구 사항을 충족하도록 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 녹는 점이 ~2000℃인 것은 어떤 의미가 있나요?
A: 높은 녹는 점은 고온 스퍼터링 공정에서 타겟이 구조적 무결성을 유지하도록 하여 신뢰성과 내구성을 제공합니다.
Q: 결합 옵션 (인듐, 엘라스토머)이 스퍼터링 과정에 어떤 영향을 미치나요?
A: 선택된 결합은 스퍼터링 중 타겟의 안정성과 부착성을 향상시켜 다양한 증착 시스템에서 균일한 성능을 보장합니다.