Name: ST0208 Aluminum Nitride (AlN) Sputtering Target
Brand: Stanford Advanced Materials (SAM)
SKU: ST0208
Availability: InStock

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스퍼터링 타겟

ST0208 알루미늄 나이트라이드 (AlN) 타겟

카탈로그 번호.	ST0208
구성	AlN
CAS 번호	24304-00-5
순도	≥99%
모양	디스크 또는 맞춤형

Stanford Advanced Materials는 소재 혁신의 최전선에 있으며, 현대 기술의 높은 요구를 충족시키는 제품을 제공합니다. 품질과 성능을 향한 지속적인 추구는 당사를 고급 소재 솔루션의 신뢰할 수 있는 파트너로 자리매김하게 하였습니다.

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알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟 설명

알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟은 고급 스퍼터링 응용을 위해 정밀하게 설계되었습니다. 정밀 제조 기술을 활용하여, 당사의 타겟은 뛰어난 순도 (≥99%)와 일관된 성능을 제공합니다. 고급 기술을 위해 설계되었으며, 고온 조건에서도 그 무결성을 유지하며, 특정 응용 요구 사항을 충족하기 위한 디스크와 맞춤형 디자인을 포함한 다양한 형태로 제공됩니다.

알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟 응용

· 전자 제품 제조: 디스플레이 스크린, 반도체 및 회로 기판을 위한 고품질 얇은 필름 및 구성 요소 생산에 필수적입니다.
· 표면 코팅: 다양한 기판에 균일하고 내구性 있는 코팅을 증착하기 위한 스퍼터링 공정에 사용됩니다.
· 고급 연구: 높은 순도와 성능 일관성이 중요한 재료 과학 연구에 이상적입니다.
· 산업 처리: 까다로운 조건에서 일관된 스퍼터링 성능이 요구되는 공정에 사용됩니다.

알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟 포장

알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟은 그 품질을 유지하기 위해 통제된 조건 하에 신중하게 포장됩니다. 제품은 진공 포장되어 운송 중 오염을 방지하기 위해 안전하게 포장됩니다. 특정 고객 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 포장 솔루션도 제공됩니다.

자주 묻는 질문

Q: 알루미늄 나이트라이드 (AlN) 스퍼터링 타겟의 주요 응용은 무엇입니까?
A: 주로 전자 구성 요소 및 장치의 고품질 얇은 필름 및 코팅을 생성하기 위한 스퍼터링 공정에 사용됩니다.

Q: 알루미늄 나이트라이드 (AlN)의 주요 특성은 무엇입니까?

A: 높은 열 전도율: AlN은 약 170-200 W/mK의 exceptionally 높은 열 전도율로 알려져 있어 열 관리 응용에 적합합니다.

전기 절연: 전도체 간의 절연이 필요한 전자 구성 요소에서 사용되는 우수한 전기 절연체입니다.

기계적 강도: AlN은 높은 온도와 기계적 스트레스를 견딜 수 있는 단단하고 내구성이 뛰어난 소재입니다.

피에조 전기적 특성: AlN은 피에조 전기적 특성을 나타내어 센서 및 작동기에 유용합니다.

고온 안정성: AlN은 1600°C 이상의 온도에서도 열화 없이 견딜 수 있습니다.

Q: 알루미늄 나이트라이드 (AlN) 얇은 필름이 이익을 주는 산업은 무엇입니까?

A: 알루미늄 나이트라이드 (AlN) 얇은 필름에서 이익을 얻는 산업은 다음과 같습니다:

전자: 반도체에서 열 관리, 유전체 층 및 capacitator 용도로 사용됩니다.

통신: 높은 열 전도율과 전기 절연이 요구되는 마이크로파 및 전파 응용에 사용됩니다.

광학: 광학 코팅 및 반사 방지 필름의 생산에 사용됩니다.

항공우주: 우수한 열 전도율 및 절연이 필요한 고온 센서 및 전자 구성 요소에서 사용됩니다.

자동차: 고열에서 작동하는 전력 전자 및 제어 시스템의 전자 구성 요소에서 사용됩니다.

의료 기기: 의료 기술의 센서 및 작동기와 같은 피에조 전기 장치에서 사용됩니다.

사양

Specification	Value
Material	알루미늄 나이트라이드
Composition	AlN
Melting Point	2,200℃
Density	3.26 g/cm³
Sputter	RF-R
Type of Bond	엘라스토머
Available Sizes	맞춤형

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