크롬 나이트라이드(Cr2N) 스퍼터링 타겟 설명
크롬 나이트라이드(Cr2N) 스퍼터링 타겟은 반도체 제조, 광학 코팅 및 표면 공학과 같은 고급 산업 응용을 위해 정밀하게 설계되었습니다. 최신 기술로 제조되어, 이 타겟은 높은 순도(≥99%)와 까다로운 조건에서도 신뢰할 수 있는 성능을 제공합니다. 견고한 물리적 특성과 맞춤형 형태로 구성되어 있어, 고급 스퍼터링 시스템에 이상적인 선택이 되며, 균일하고 일관된 증착 프로세스를 보장합니다.
크롬 나이트라이드(Cr2N) 스퍼터링 타겟 응용
· 박막 증착: 반도체 장치, 광학 부품 및 전자 회로에서 고도로 균일한 필름 생성에 필수적입니다.
· 표면 코팅: 절삭 공구 및 산업 기계의 마모 저항성과 내구성을 향상시키기 위해 사용됩니다.
· 반도체 가공: 집적 회로 및 기타 전자 부품 제조에서 정밀도에 최적화되어 있습니다.
· 광학 코팅: 높은 일관성과 성능이 필요한 반사 및 비반사 표면 설계에 사용됩니다.
크롬 나이트라이드(Cr2N) 스퍼터링 타겟 포장
저희 크롬 나이트라이드 스퍼터링 타겟은 본래의 품질을 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 각 타겟은 습기 차단 및 정전기 차단 재료로 안전하게 포장됩니다. 스퍼터링 시스템의 특정 요구 사항을 충족하기 위한 맞춤형 포장 옵션도 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: 크롬 나이트라이드 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 광학 코팅 및 표면 공학에서 박막 증착에 주로 사용되며, 성능과 일관된 결과를 보장합니다.
Q: Cr₂N 스퍼터링 타겟은 다양한 스퍼터링 시스템과 호환되나요?
A: 네, 저희 Cr₂N 타겟은 다양한 스퍼터링 시스템과의 호환성을 위해 설계되어 있으며, DC 및 RF 설정에서 우수한 성능을 제공합니다.
Q: 제조 공정에서 어떤 품질 기준이 유지되나요?
A: 타겟은 ≥99%의 순도 수준으로 생산되며, 신뢰성과 성능을 보장하기 위해 엄격한 산업 품질 기준을 준수합니다.
Q: 특정 스퍼터링 장비에 맞게 타겟을 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 물론입니다. 고객의 스퍼터링 시스템 사양 및 요구 사항에 정확하게 맞춘 맞춤형 형태와 크기를 제공합니다.
Q: 크롬 나이트라이드는 장시간 스퍼터링 과정에서 어떻게 수행되나요?
A: 크롬 나이트라이드는 뛰어난 열 및 화학적 안정성을 나타내며, 장기간 스퍼터링 작업에서도 신뢰할 수 있는 성능과 수명을 보장합니다.