질화 아연(Zn3N2) 스퍼터링 타겟 설명
질화 아연(Zn₃N₂) 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 증착 공정에서 지속적이고 신뢰할 수 있는 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 순도 ≥99%로 제조된 이 타겟은 안정적인 박막 형성과 정밀한 패터닝을 보장하여 산업 응용 분야에서 사용됩니다. 맞춤형 형태도 제공되어 특수 스퍼터링 장비 및 연구 응용 분야에 적합합니다.
질화 아연(Zn3N2) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 소자: 마이크로 전자 장치 및 집적 회로의 증착 공정에 필수적입니다.
· 광전자기기: LED, 광검출기 및 관련 구성 요소의 제작에 사용됩니다.
· 표면 코팅: 내마모성과 성능을 개선하기 위한 박막 코팅 기술에 적용됩니다.
· 고급 연구: 실험적 스퍼터링 설정 및 재료 과학 연구에 적합합니다.
질화 아연(Zn3N2) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 질화 아연 스퍼터링 타겟은 배송 및 보관 중 제품 무결성을 유지하기 위해 안전하게 포장됩니다. 포장 옵션은 산업별 요구 사항에 맞게 사용자 정의 가능한 무게와 구성을 포함하여 진공 밀봉 방법이 있습니다.
자주 묻는 질문
Q: 질화 아연 스퍼터링 타겟의 일반적인 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 소자 제작, 광전자기기, 표면 코팅 공정 및 고급 연구 응용 분야에서 사용됩니다.
Q: 순도 ≥99%가 성능에 미치는 영향은 무엇인가요?
A: 높은 순도는 스퍼터링 중 오염을 최소화하여 우수한 필름 품질과 일관성, 전기적 특성 향상을 가져옵니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 맞춤형 형태가 가능한가요?
A: 네, 우리의 타겟은 디스크 형태 또는 특정 장비 및 응용 분야 요구 사항에 맞춰 제작될 수 있습니다.
Q: Zn₃N₂는 고온 스퍼터링 조건에서 얼마나 안정적인가요?
A: 약 700℃의 융점과 강력한 화학적 안정성으로 인해 Zn₃N₂는 스퍼터링 공정에서 일반적인 고온 조건에서 우수한 성능을 나타냅니다.
Q: 이 타겟의 특별한 취급 방법이나 보관 방법은 무엇인가요?
A: 타겟은 깨끗하고 건조한 환경에서 보관해야 하며, 고순도와 구조적 무결성을 유지하기 위해 주의해서 다루어야 합니다.