알루미늄 플루오르화물(AlF3) 스퍼터링 타겟 설명
알루미늄 플루오르화물(AlF3) 스퍼터링 타겟은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 정밀 코팅 응용을 위해 설계되었습니다. 우수한 순도로 제조되며, 디스크와 같은 맞춤형 형태로 제공되어, 엄격한 스퍼터링 조건에서 일관된 성능을 제공합니다. 안정적인 구성 및 열적 안정성으로 인해 고급 산업 응용을 위한 우수한 선택입니다.
알루미늄 플루오르화물(AlF3) 스퍼터링 타겟 응용
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박막 증착: 반도체 장치 및 디스플레이 패널에서 균일한 필름을 생성하는 데 이상적입니다.
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광학 코팅: 렌즈 및 광학 부품에 보호 및 반사층을 증착하는 데 사용됩니다.
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태양광 셀: 효율적인 광전지 층 생산을 촉진합니다.
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산업 코팅: 다양한 첨단 제조 공정에서 고성능 코팅을 지원합니다.
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연구 및 개발: 고급 소재 연구에서 실험적 설정 및 프로토타입 제작에 적합합니다.
알루미늄 플루오르화물(AlF3) 스퍼터링 타겟 포장
알루미늄 플루오르화물(AlF3) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 무결성을 보장하기 위해 신중하게 포장됩니다. 특정 요구 사항에 맞춘 맞춤 포장 옵션이 제공되어, 제품이 최상의 상태로 도착하여 최적의 성능을 발휘할 수 있습니다.
자주 묻는 질문
Q: 알루미늄 플루오르화물(AlF₃) 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 장치, 디스플레이 패널 및 광학 코팅에 박막을 증착하는 데 사용됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 높은 순도는 어떻게 유지되나요?
A: 타겟은 ≥99%의 순도를 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 하에 생산됩니다.
Q: 타겟은 모양과 크기를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 특정 고객 요구 사항을 충족하기 위해 디스크를 포함한 맞춤형 형태로 제공됩니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 열적 특성은 무엇인가요?
A: 1291℃의 용융점과 3.1 g/cm³의 밀도를 가지고 있어 고온 공정에서 우수한 열적 안정성을 제공합니다.
Q: 알루미늄 플루오르화물(AlF₃) 스퍼터링 타겟은 대규모 산업 응용에 적합한가요?
A: 네, 일관된 구성과 높은 성능 덕분에 산업 규모의 제작 및 생산 공정에 적합한 선택입니다.