칼슘 플루오라이드 (CaF2) 스퍼터링 타겟 설명
칼슘 플루오라이드 (CaF2) 스퍼터링 타겟은 고성능 스퍼터링 적용을 위해 설계되었습니다. 엄격한 품질 관리를 통해 생산된 이 타겟은 신뢰할 수 있는 증착을 위해 균일한 물질 특성을 보장합니다. 높은 순도와 고온에서의 안정성으로 인해 전자 산업, 광학 코팅 및 기타 정밀 응용 분야에 적합한 선택입니다. 또한, 제공되는 맞춤형 형태는 특정 제조 요구 사항에 맞춘 솔루션을 제공합니다.
칼슘 플루오라이드 (CaF2) 스퍼터링 타겟 응용
· 표면 코팅: 다양한 기판에 얇고 균일한 필름을 증착하는 스퍼터링 과정에서 사용됩니다.
· 반도체 제조: 광학 부품 및 절연층 제작에 중요한 역할을 합니다.
· 광학 장치: UV 및 IR 범위에서 우수한 투과 특성으로 인해 렌즈 및 기타 광학 장비 생산에 사용됩니다.
· 고온 공정: 극한의 열에서도 재료가 무결성을 유지해야 하는 응용 분야에 적합합니다.
칼슘 플루오라이드 (CaF2) 스퍼터링 타겟 포장
당사의 칼슘 플루오라이드 스퍼터링 타겟은 운송 중 물질의 무결성을 유지하기 위해 주의 깊게 포장됩니다. 소량(예: 5kg당 백)에는 진공 밀봉 포장 옵션이 제공되며, 대량 주문에는 벌크 포장이 제공되어 제품이 적절한 상태로 도착하여 즉시 사용할 수 있습니다.
자주 묻는 질문
Q: 칼슘 플루오라이드 (CaF2) 스퍼터링 타겟을 사용하는 산업은 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 광학 장치 생산 및 고온 표면 코팅 공정과 같은 산업이 높은 순도 CaF2 스퍼터링 타겟을 많이 사용합니다.
Q: CaF2 스퍼터링 타겟의 높은 순도 (≥99%)는 어떻게 보장되나요?
A: 생산 과정에서 엄격한 품질 관리 조치를 통해 순도가 보장되며, 오염 물질을 제거하기 위해 고급 정화 기술을 사용합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 표준 원판 형태 외에도 운영 또는 장비 요구 사항에 따라 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: CaF2 스퍼터링 타겟의 주요 성능 특성은 무엇인가요?
A: 주요 특성에는 1,418℃의 높은 용융점, 안정적인 밀도, 일관된 물질 특성, 고온 및 정밀 응용에서의 우수한 성능이 포함됩니다.
Q: 칼슘 플루오라이드 스퍼터링 타겟은 어떻게 보관하거나 취급해야 하나요?
A: 청결하고 건조한 환경에 보관하며, 오염을 피하기 위해 적절한 도구를 사용하여 조심스럽게 다루어야 합니다. 이를 통해 타겟이 최적의 성능을 유지할 수 있습니다.
사양
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사양
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세부사항
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재료
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플루오르화 칼슘 (CaF₂)
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CAS 번호
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7789-75-5
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순도
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≥99%
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외관
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처리에 따라 일반적으로 투명한 결정체 또는 반투명함
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융점
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1418℃
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밀도
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3.18 g/cm³
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스퍼터링
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해당 없음
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결합 유형
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해당 없음
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사용 가능한 크기
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맞춤형
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*위 제품 정보는 이론적인 데이터를 기반으로 하며 참고용입니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.