몰리브데넘 실리사이드 (MoSi2) 스퍼터링 타겟 설명
몰리브데넘 실리사이드 (MoSi2) 스퍼터링 타겟은
고급 재료 가공 기술을 통해 개발되어 스퍼터링 과정에서 높은 균일성과 성능을 보장합니다. 고융점 및 우수한 밀도로 인해 마이크로전자, 태양전지 및 기타 정밀 코팅 기술에서 요구되는 응용 분야에 적합합니다. RF 스퍼터링 기능은 효율적인 타겟 마모와 일관된 박막 증착을 보장하여 우수한 필름 품질과 장치 성능을 가능하게 합니다.
몰리브데넘 실리사이드 (MoSi2) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 소자: 마이크로전자 및 집적 회로용 박막 증착에 사용됩니다.
· 태양전지: 빛 흡수 및 효율을 향상하는 내구성 있고 안정적인 코팅을 제공합니다.
· 마이크로가공: MEMS 및 센서 응용 분야에서 정밀하고 균일한 박막 층을 생성하는 데 적합합니다.
· 표면 코팅: 다양한 기판에 대한 마모 저항성과 열적 안정성을 부여하는 첨단 코팅 공정에 사용됩니다.
몰리브데넘 실리사이드 (MoSi2) 스퍼터링 타겟 포장
저희 몰리브데넘 실리사이드 (MoSi2) 스퍼터링 타겟은
저장 및 운송 중 무결성과 성능을 유지하도록 철저하게 포장됩니다. 고객의 특정 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 포장 옵션이 가능합니다. 표준 포장은 오염 및 기계적 스트레스를 방지하도록 설계된 진공 밀봉 용기를 포함합니다.
자주 묻는 질문
Q: MoSi2 타겟에 추천하는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 최적의 증착 성능을 위해 RF 스퍼터링이 추천됩니다.
Q: MoSi2 스퍼터링 타겟의 제공 가능한 형태는 무엇인가요?
A: 타겟은 디스크 형태로 제공되며, 특정 응용 요구 사항에 맞게 맞춤 제작될 수 있습니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟의 보증된 순도 수준은 얼마인가요?
A: MoSi2 스퍼터링 타겟은 ≥99%의 순도를 보장합니다.
Q: 고융점이 스퍼터링 과정에 어떤 이점을 주나요?
A: 고융점 (2030℃)은 우수한 열적 안정성을 보장하고 고에너지 조건에서도 효율적인 스퍼터링을 가능하게 합니다.
Q: 사용 전에 스퍼터링 타겟은 어떻게 보관해야 하나요?
A: 오염을 방지하고 성능을 극대화하기 위해 깨끗하고 건조한 환경에서 적절한 포장 (진공 밀봉 용기 등)으로 보관하는 것이 권장됩니다.