탄탈럼 실리사이드 (TaSi2) 스퍼터링 타겟 설명
탄탈럼 실리사이드 (TaSi2) 스퍼터링 타겟은 ≥99%의 순도로 생산되어 반도체 및 고급 전자 장치의 정밀 응용에 적합합니다. 2200℃의 녹는점과 8.5 g/cm³의 밀도와 같은 최적화된 물리적 특성은 RF, RF-R 및 DC 조건에서 수행되는 스퍼터링 프로세스 동안 신뢰할 수 있는 성능과 높은 안정성을 보장합니다. 표준 디스크 형태와 맞춤형 설계 모두에 맞춰 설계된 이 제품은 균일하고 고품질의 얇은 필름을 제공하여 다양한 산업 요구 사항을 충족합니다.
탄탈럼 실리사이드 (TaSi2) 스퍼터링 타겟 적용 분야
· 반도체 제조: 마이크로 전자 구성 요소에 사용되는 정밀한 얇은 필름 생성에 적합합니다.
· 표면 코팅: 다양한 기판에 마모 저항성 및 전도성 층을 증착하는 데 사용됩니다.
· 고급 전자기기: 안정적이고 전도성 필름이 필요한 고성능 회로 및 센서의 생산에 사용됩니다.
· 연구 및 개발: 재료 과학 및 나노 기술의 실험 환경에 적합하며, 통제된 스퍼터링 조건이 필수적입니다.
탄탈럼 실리사이드 (TaSi2) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 탄탈럼 실리사이드 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 중 청결한 상태를 유지하도록 세심하게 포장됩니다.
포장 옵션에는 진공 밀봉된 파우치 및 제품 크기에 맞춘 맞춤형 포장 솔루션이 포함되어 있으며, 예를 들어 5kg 당 봉지 또는 25kg 당 드럼 등이 있으며, 자재의 무결성을 전 생애에 걸쳐 보장합니다.
자주 묻는 질문
Q: 탄탈럼 실리사이드가 스퍼터링 응용에 적합한 이유는 무엇인가요?
A: 탄탈럼 실리사이드는 예외적인 열 안정성과 높은 전기 전도성을 제공하여 스퍼터링 과정에서 얇은 필름 증착의 신뢰성 및 열화 저항을 보장합니다.
Q: 이 타겟은 어떤 스퍼터링 방법과 호환되나요?
A: 이 타겟은 RF, RF-R 및 DC 스퍼터링 기술에 맞춰 설계되어 있어 다양한 산업 프로세스에서 변형 가능성이 높습니다.
Q: 특정 장치 요구 사항에 맞춰 타겟을 맞춤화할 수 있나요?
A: 네, 탄탈럼 실리사이드 스퍼터링 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되거나 특정 응용 요구에 맞춰 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: 탄탈럼 실리사이드 스퍼터링 타겟을 사용하는 가장 많은 혜택을 받는 산업은 무엇인가요?
A: 반도체 제조업, 고급 전자기기, 표면 코팅 기술과 같은 산업은 이 재료의 성능과 내구성 향상에서 상당한 혜택을 받을 수 있습니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 품질과 일관성을 어떻게 보장하나요?
A: 우리의 생산 과정은 정밀 산업 응용에 필요한 높은 기준을 충족하도록 각 배치를 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 조치와 고급 원자화 기술을 사용합니다.