세륨 보라이드(CeB6) 스퍼터링 타겟 설명
세륨 보라이드(CeB6) 스퍼터링 타겟은 박막 증착 공정에서 정밀하고 신뢰할 수 있는 성능을 제공하기 위해 설계되었습니다. 최첨단 기술을 사용하여 제조된 이 타겟은 2550℃의 녹는점을 가지며, 4.77 g/cm³의 밀도를 가지고 있어 고출력 스퍼터링 조건에서도 안정성과 내구성을 보장합니다. 순도 ≥99%로 반도체 제조, 광학 코팅 및 마이크로 전자 장치 제조와 같은 고급 응용 분야에 이상적입니다.
세륨 보라이드(CeB6) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 제조: 마이크로 전자 장치에서 고품질 박막 증착 필수
· 광학 코팅: 고급 광학 필름 생산을 위한 안정적인 기판 제공
· 마이크로 전자 제품: 정밀성과 고순도가 요구되는 증착 공정에 사용
· 연구 및 개발: 재료 과학 및 고급 증착 기술 관련 실험 연구에 적합
세륨 보라이드(CeB6) 스퍼터링 타겟 포장
당사 세륨 보라이드 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 최상의 상태를 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 제품은 진공 밀봉되어 있으며, 특정 고객 요구 사항을 충족하도록 맞춤형 크기로 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 세륨 보라이드 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 제조, 광학 코팅 및 마이크로 전자 제품의 박막 증착과 고급 재료에 대한 연구 및 개발에 사용됩니다.
Q: 이 타겟과 호환되는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF, RF-R 및 DC 스퍼터링 시스템과 호환되어 다양한 증착 설정에서의 유연성을 보장합니다.
Q: 타겟의 고순도(≥99%)는 어떻게 유지되나요?
A: 타겟은 제조 과정에서 엄격한 품질 관리 및 정제 절차를 거쳐 고순도와 일관된 성능을 보장합니다.
Q: 타겟의 형태와 크기를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 세륨 보라이드 스퍼터링 타겟은 표준 원형 형태로 제공되며, 특정 설계 및 운영 요구 사항에 맞게 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 2550℃의 높은 녹는점이 제공하는 이점은 무엇인가요?
A: 높은 녹는점은 스퍼터링 공정 중 고온 조건에서도 타겟의 안정성을 보장하고 신뢰할 수 있는 성능을 제공합니다.