란탄붕소화합물 (LaB6) 스퍼터링 타겟 설명
란탄붕소화합물 (LaB6) 스퍼터링 타겟은 고효율 스퍼터링 공정을 위해 설계되었습니다. 순도가 높은 (≥99%) LaB₆로 제조되며, 정밀한 엔지니어링을 통해 스퍼터링 타겟은 뛰어난 필름 균일성과 접착성을 제공합니다. 높은 융해점 (2528℃)과 제어된 밀도 (4.72 g/cm³)는 요구되는 스퍼터링 조건에서도 안정적인 성능을 보장합니다. 마이크로 전자공학, 광학 및 코팅 기술 등 다양한 분야의 증착에 적합하며, 고품질 박막 생산을 위한 강력한 솔루션을 제공합니다.
란탄붕소화합물 (LaB6) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 진공 코팅: 마이크로 전자공학 및 광학 부품에서 고품질 박막 증착에 적합합니다.
· 반도체 제조: 정밀하고 균일한 필름 증착을 필요로 하는 공정에 사용됩니다.
· 표면 엔지니어링: 내마모성 및 부식 방지 코팅 제조에 적용됩니다.
· 과학 연구: 일관된 스퍼터링 성능과 고순도 재료가 요구되는 실험에 필수적입니다.
란탄붕소화합물 (LaB6) 스퍼터링 타겟 포장
란탄붕소화합물 (LaB6) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 제품의 무결성을 유지하도록 안전하게 포장됩니다. 각 유닛은 주의 깊게 포장 및 레이블링되어 제품이 배송 시 원래 상태로 도착하도록 보장합니다. 특정 고객 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 포장 솔루션도 요청 시 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: LaB6 스퍼터링 타겟에 가장 적합한 스퍼터링 시스템은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF 스퍼터링 시스템에 최적화되어 있어 박막 처리 중 효율적이고 균일한 증착을 보장합니다.
Q: LaB6의 높은 융해점이 성능에 미치는 영향은 무엇인가요?
A: LaB6의 높은 융해점 (2528℃)은 고에너지 스퍼터링 공정을 견딜 수 있게 하여, 증착 중 안정성과 내구성을 향상시킵니다.
Q: LaB6 스퍼터링 타겟의 크기와 형태를 맞춤화할 수 있나요?
A: 네, 이 타겟은 표준 원형으로 제공되며, 특정 응용 및 장비 요구 사항에 맞춰 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: LaB6 스퍼터링 타겟을 사용하여 가장 이익을 보는 산업은 무엇인가요?
A: 마이크로 전자공학, 광학, 반도체 제조 및 표면 엔지니어링 산업이 높은 순도와 신뢰할 수 있는 스퍼터링 성능 덕분에 많은 이익을 얻습니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 사용 수명을 어떻게 보장하나요?
A: 적절한 취급, 스퍼터링 시스템의 정기적인 유지 관리 및 권장 운영 파라미터 준수가 LaB6 스퍼터링 타겟의 수명과 성능을 극대화하는 데 도움이 될 수 있습니다.