갈륨 텔루르화물(Ga2Te3) 스퍼터링 타겟 설명
Stanford Advanced Materials에서 제공하는 갈륨 텔루르화물(Ga2Te3) 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 및 박막 증착 응용 분야에서 뛰어난 성능을 위해 설계되었습니다. 순도 ≥99%로 제조되어 고온에서도 구조적 안정성을 유지하며, 신뢰할 수 있고 일관된 성능을 제공합니다. 디스크 및 특별 제작형을 포함한 맞춤형 형태는 다양한 증착 시스템에 유연하게 통합될 수 있습니다. 정밀하게 설계되어 반도체 및 고급 재료 산업에서 요구되는 엄격한 품질 기준을 충족합니다.
갈륨 텔루르화물(Ga2Te3) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 가공: 전자 제조에서 고품질 박막 증착에 적합합니다.
· 표면 코팅: 다양한 기판에 균일한 코팅을 증착하는 스퍼터링 공정에 활용됩니다.
· 연구 및 개발: 재료 과학 및 나노기술에 대한 고급 연구에 적합합니다.
· 맞춤형 산업 응용: 특수형 스퍼터링 시스템에 필요한 맞춤형 타겟에 이상적입니다.
갈륨 텔루르화물(Ga2Te3) 스퍼터링 타겟 포장
저희 갈륨 텔루르화물 스퍼터링 타겟은 최상의 상태로 도착할 수 있도록 세심하게 포장됩니다. 포장 솔루션은 각 타겟의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화되어 있으며, 저장 및 운송 중에 제품의 무결성을 유지하기 위해 안전하고 보호된 랩을 제공합니다.
자주 묻는 질문
Q: 갈륨 텔루르화물 스퍼터링 타겟의 순도 수준은 어떻게 되나요?
A: 순도 수준은 높은 성능과 신뢰성을 보장하기 위해 ≥99%로 유지됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태는 맞춤화할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 디스크 형태로 제공되거나 특정 설계 요구 사항에 맞게 맞춤 제작 가능합니다.
Q: 갈륨 텔루르화물(Ga2Te3) 스퍼터링 타겟에 가장 적합한 응용 분야는 무엇인가요?
A: 반도체 가공, 박막 표면 코팅 및 고급 재료 연구에 적합합니다.
Q: 용융점이 스퍼터링 타겟의 성능에 미치는 영향은 무엇인가요?
A: 825℃의 용융점은 고온 스퍼터링 조건에서 타겟의 안정성과 효율성을 보장합니다.
Q: 포장 과정에서 제품 품질을 보장하기 위해 어떤 조치를 취하나요?
A: 타겟은 저장 및 운송 중에 제품을 보호하기 위해 맞춤형 안전 솔루션에 포장되어 고품질을 유지합니다.