Indium Telluride (In2Te3) 스퍼터링 타겟 설명
Indium Telluride (In2Te3) 스퍼터링 타겟은 고급 박막 증착 및 진공 코팅 과정에 맞춰 설계되었습니다. 순도가 ≥99%인 이 타겟은 반도체 및 마이크로전자 응용 분야에 필수적인 일관된 성능과 균일한 물질 특성을 제공합니다. 정밀 제작과 사용자 맞춤형 형태로 다양한 산업적 용도에 적합하여 최적의 증착 속도와 필름 품질을 보장합니다.
Indium Telluride (In2Te3) 스퍼터링 타겟 활용 분야
· 박막 증착: 반도체 및 전자 기기 제조에 고품질 필름을 생성하기 위한 스퍼터링 과정에 적합합니다.
· 마이크로전자: 마이크로칩, 센서 및 기타 고급 전자 부품 제조에 사용됩니다.
· 표면 코팅: 다양한 산업 응용 분야에서 보호 및 전도층을 구축하는 데 활용됩니다.
· 연구 개발: 학술 및 산업 R&D 환경에서 새로운 증착 기술을 탐색하기 위한 실험 설비에 적합합니다.
Indium Telluride (In2Te3) 스퍼터링 타겟 포장
당사의 스퍼터링 타겟은 온전한 상태로 고객에게 도착할 수 있도록 철저히 포장됩니다. 옵션으로는 진공 밀봉 포장과 운영 요구 사항에 맞춘 사용자 정의 구성이 포함됩니다.
자주 묻는 질문
Q: In2Te3 스퍼터링 타겟의 일반적인 용도는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 제조, 마이크로전자 및 특수 표면 코팅 용도에서 박막 증착에 사용됩니다.
Q: In2Te3 타겟의 품질과 순도는 어떻게 보장되나요?
A: 당사의 타겟은 천명한 품질 관리 규정을 준수하여 제조되며, 순도 ≥99%와 배치 전반에 걸쳐 일관된 물질 특성을 보장합니다.
Q: 타겟의 형태와 크기를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 표준 원판 형태로 제공되며 특정 응용 요구 사항에 맞춰 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: Indium Telluride 스퍼터링 타겟은 어떤 증착 방법과 호환되나요?
A: 진공 환경에서의 스퍼터 증착 과정에 적합하며, 표준 스퍼터링 시스템과 통합할 수 있습니다.
Q: In2Te3 스퍼터링 타겟은 어떻게 취급 및 저장해야 하나요?
A: 최적의 성능을 유지하기 위해 타겟을 적절한 개인 보호 장비를 사용하여 조심스럽게 다루고, 깨끗하고 건조한 환경에 보관해야 합니다.