텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟 설명
텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟은 현대 박막 증착 기술에서 신뢰할 수 있는 성능을 위해 설계되었습니다. 순도 ≥99%로 제조된 이 타겟은 디스크 또는 맞춤형 구성과 같은 다양한 형태로 제공됩니다. RF, RF-R 및 DC와 같은 다양한 스퍼터링 모드에서 효과적으로 작동하며, 용융점 900℃로 우수한 열 안정성을 제공합니다. 밀도 9.53 g/cm³는 고정밀 코팅 및 반도체 응용 분야에 적합성을 더욱 향상시킵니다.
텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 제조: 전자 부품 제작을 위한 고품질 박막 증착 가능.
· 광전자: 정밀한 증착과 높은 열 안정성을 요구하는 장치 개발 지원.
· 고급 코팅: 보호 및 기능성 표면 코팅을 위한 내구성 있는 층 제공.
· 연구 개발: 재료 과학 실험, 나노기술 연구 및 프로토타입 개발에 적합.
텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 무결성을 유지하기 위해 세심하게 포장됩니다. 안전한 배송과 도착 후 최적의 성능을 보장하기 위해 맞춤형 포장 옵션이 제공됩니다.
자주 하는 질문
Q: 텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟이 박막 증착에 적합한 이유는 무엇인가요?
A: 높은 순도(≥99%), 우수한 열 안정성(용융점 900℃), 높은 밀도(9.53 g/cm³)는 고급 제조 공정에 적합한 균일하고 신뢰할 수 있는 증착을 보장합니다.
Q: 이 타겟과 호환되는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF, RF-R 및 DC 스퍼터링 기술과의 사용을 위해 설계되어 다양한 증착 응용에 유연성을 제공합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 예, 이 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며 특정 응용 요구에 맞춘 맞춤형 구성도 가능합니다.
Q: 텅스텐 텔루라이드(WTe2) 스퍼터링 타겟의 일반적인 응용 분야는 무엇인가요?
A: 반도체 제조, 광전자, 고급 코팅, 연구 개발 등 고성능 산업 응용 분야에서 널리 사용됩니다.
Q: 포장 및 배송 중 제품 품질은 어떻게 유지되나요?
A: 우리의 스퍼터링 타겟은 맞춤형 솔루션을 사용하여 손상으로부터 보호되도록 안전하게 포장되어 즉시 사용할 수 있는 최적의 상태로 도착합니다.