인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟 설명
인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟은 In2O3:Ga2O3 조성을 가지고 있으며, 순도는 ≥99%로 스퍼터링 공정에서 우수한 성능을 보장합니다. 정밀 얇은 필름 증착을 위해 설계된 이 타겟은 반도체 및 태양광 산업의 높은 요구를 충족하며, 특정 응용 요구에 맞는 맞춤형 형태를 제공합니다.
인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 얇은 필름 증착: 고품질 반도체 및 태양광 얇은 필름 제작에 적합합니다.
· 코팅 응용: 우수한 균일성과 성능을 요구하는 코팅 생산에 사용됩니다.
· 고급 전자기기: 첨단 전자 기기 내 다양한 구성요소에 적합합니다.
· 연구 및 개발: 최첨단 기술 연구에서 실험용 스퍼터링 공정에 대한 우수한 선택입니다.
인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟 포장
인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 높은 순도와 무결성을 유지하기 위해 안전하게 포장됩니다. 표준 포장 옵션으로는 진공 밀봉 포장 또는 고객 요구에 따른 맞춤형 배치가 포함됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?
A: 인듐 갈륨 산화물 (IGO) 스퍼터링 타겟은 In2O3:Ga2O3 조성으로 만들어진 고순도 타겟으로, 다양한 기판에 얇고 균일한 필름을 증착하는 스퍼터링 공정에 사용됩니다.
Q: IGO 타겟은 어떤 스퍼터링 공정에 사용될 수 있습니까?
A: 이 타겟은 DC 및 RF 마그네트론 스퍼터링을 포함한 표준 스퍼터링 기술과 호환되어 다양한 증착 환경에서 다용도로 사용될 수 있습니다.
Q: IGO 스퍼터링 타겟을 사용할 때의 이점은 무엇입니까?
A: 이 타겟은 뛰어난 재료 순도, 맞춤형 형태, 일관된 성능을 제공하여 첨단 산업 응용에서 필름 특성에 대한 정밀한 제어를 가능하게 합니다.
Q: 어떤 산업에서 IGO 스퍼터링 타겟을 주로 사용합니까?
A: 반도체, 태양광, 고급 전자 기기 및 연구 기관과 같은 산업에서 IGO 스퍼터링 타겟을 필수적인 증착 응용을 위해 활용합니다.
Q: IGO 스퍼터링 타겟의 형태와 크기를 맞춤 제작할 수 있습니까?
A: 네, 타겟은 표준 원판 형태로 제공되며, 특정 응용 요구에 맞춰 맞춤 제작이 가능합니다.