가돌리늄 지르코네이트 (Gd2Zr2O7) 스퍼터링 타겟 설명
가돌리늄 지르코네이트 (Gd₂Zr₂O₇) 스퍼터링 타겟은
첨단 스퍼터링 응용을 위해 특별히 개발된 고성능 세라믹 재료입니다. 이 물질의 화학 조성은 매우 높은 온도에서 안정성을 제공하여 박막 증착 과정에 적합합니다. 순도 ≥99%로 제조되어 일관된 품질과 성능을 제공합니다. 이 제품은 표준 원판 형태로 제공되거나 다양한 산업 응용 요구에 맞춘 맞춤형 타겟으로 제공됩니다.
가돌리늄 지르코네이트 (Gd2Zr2O7) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 반도체 제조, 광학 코팅 및 연구 등급 스퍼터링 프로세스에 최적화되어 있습니다.
· 고온 코팅: 극한의 열 환경에서 강력한 보호 기능을 제공합니다.
· 세라믹 공학: 높은 융점과 구조적으로 안정한 특성이 요구되는 응용 분야에서 사용됩니다.
· 연구 개발: 첨단 재료 과학에서 실험 연구 및 혁신에 적합합니다.
가돌리늄 지르코네이트 (Gd2Zr2O7) 스퍼터링 타겟 포장
가돌리늄 지르코네이트 스퍼터링 타겟은 보관 및 운송 중 원 상태를 유지하도록 신중하게 포장됩니다. 고객의 특정 취급 및 배송 요구 사항을 충족하는 맞춤형 포장 옵션도 제공됩니다.
자주 묻는 질문
Q: 가돌리늄 지르코네이트 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 반도체 장치의 박막 증착, 광학 코팅, 고온 보호층 및 다양한 연구 응용에서 널리 사용됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 고순도 (≥99%)는 어떻게 유지되나요?
A: 우리의 제조 공정은 일관된 고순도와 성능을 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 및 고급 세라믹 합성 기술을 포함합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 커스텀 형태 또는 크기를 요청할 수 있나요?
A: 예, 표준 원판 형태 외에도 특정 산업 요구에 완벽하게 맞춘 맞춤형 타겟을 제공합니다.
Q: 이 타겟은 어떤 스퍼터링 프로세스에 적합한가요?
A: 이 타겟은 첨단 스퍼터링 응용을 위해 설계되었지만, 귀하의 스퍼터링 시스템 지침서에 명시된 증착 기술을 가장 잘 활용할 수 있습니다.
Q: 이 타겟의 보관 및 취급 시 고려해야 할 사항은 무엇인가요?
A: 타겟을 깨끗하고 건조한 환경에서 보관하고 조심스럽게 취급하여 구조적 무결성과 고성능 특성을 유지하는 것이 좋습니다.