비스무스 란타넘 철 타겟 설명
비스무스 란타넘 철 타겟은 기능성 박막 증착에 최적화되어 제작되었습니다. 고순도 Bi(1-x)LaxFeO3로 제작된 이 스퍼터링 타겟은 고급 스퍼터링 기술을 사용하여 강유전체, 압전 및 다자성 박막을 제작하는 데 적합합니다. 독특한 조성은 신뢰할 수 있는 필름 품질과 우수한 전기적 특성을 보장하며, 다양한 처리 조건에서 안정적인 성능을 제공합니다. 이 재료는 마이크로전자, 센서 기술 및 에너지 장치 제조 응용 분야에 특히 적합합니다.
비스무스 란타넘 철 타겟 응용 분야
· 박막 증착: 마이크로전자 및 센서 장치를 위한 고품질 강유전체 및 다자성 박막의 생산을 가능하게 합니다.
· 전자 장치 제작: 커패시터, 메모리 장치 및 기타 고급 전자 시스템의 구성 요소를 제작하는 데 적합합니다.
· 센서 기술: 환경, 생물 의학 및 산업 모니터링을 위한 민감하고 신뢰할 수 있는 센서 개발을 지원합니다.
· 액추에이터 및 트랜스듀서: 전기 신호를 기계적 움직임으로 정밀하게 제어하고 변환하는 장치에 활용됩니다.
비스무스 란타넘 철 타겟 포장
우리의 비스무스 란타넘 철 타겟은 운송 및 보관 중 원래 상태를 유지하도록 신중하게 포장됩니다.
진공 밀폐 포장: 일반적으로 디스크 형태로 제공되며, 고객 요구에 따라 맞춤형 옵션이 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: 비스무스 란타넘 철 타겟 사용의 주요 이점은 무엇인가요?
A: 탁월한 순도, 신뢰할 수 있는 필름 균일성 및 고성능 전자 및 센서 응용에 중요한 기능적 특성을 제공합니다.
Q: 박막 증착에서 타겟 재료는 어떻게 사용되나요?
A: 이 타겟은 스퍼터링 과정에서 사용되며, 고에너지 이온이 타겟의 재료를 방출하여 기판에 균일한 박막을 형성합니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태와 크기를 맞춤화할 수 있나요?
A: 네, 스퍼터링 타겟은 디스크 형태로 제공되며 특정 장비 및 프로세스 요구 사항에 맞게 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: 이 스퍼터링 타겟을 가장 많이 사용하는 산업은 무엇인가요?
A: 마이크로전자, 센서 기술 및 에너지 장치 제조 산업에서 널리 사용되며, 다기능 재료의 연구 개발에도 활용됩니다.
Q: 타겟의 특별한 취급 또는 보관 요구 사항이 있나요?
A: 타겟은 사용 전에 오염 및 수분으로부터 보호하기 위해 진공 밀폐 포장 상태에서 일반적으로 보관되어야 합니다.