금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟 설명
금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟은 고급 진공 증착 공정에 최적화된 프리미엄 소재입니다. 순도(≥99%)가 높은 원료로 제조되며, 디스크와 같은 맞춤형 모양으로 제공됩니다. 이 타겟은 균일한 얇은 필름을 생성하는 데 최적화되어 있습니다. 인듐 및 엘라스토머와의 특수 결합은 스퍼터링 공정의 까다로운 조건에서 성능을 향상시킵니다. Stanford Advanced Materials에 의해 정밀하게 개발된 이 제품은 산업 및 연구 응용을 위한 엄격한 기준을 충족합니다.
금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟의 응용
· 반도체 제조: 마이크로 전자 장치 제조에서 얇은 필름을 제작하는 데 적합합니다.
· 마이크로 전자 공학: 고성능 회로를 위한 전도성 층의 증착에 사용됩니다.
· 광학 코팅: 정밀 광학 부품 및 반사 코팅에 적합합니다.
· 연구 및 개발: 실험적 진공 증착 공정 및 재료 연구를 위한 신뢰할 수 있는 선택을 제공합니다.
금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟은 그 무결성과 순도를 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 제품은 고객의 사양에 맞춰 보호용 진공 밀봉 포장으로 제공됩니다. 포장 옵션에는 표준 사이즈인 5kg 짜리 봉지 또는 25kg 짜리 드럼이 포함되며, 요청 시 맞춤형 포장도 가능합니다.
자주 묻는 질문
질문: 스퍼터링 타겟이란 무엇이며 어떻게 사용되나요?
답변: 스퍼터링 타겟은 물리적 증기 증착 공정에서 사용되는 물질 원천입니다. 이온이 타겟 재료를 폭격하여 원자가 이탈하여 기판 위에 얇은 필름으로 증착됩니다. 주로 반도체 및 마이크로 전자 공학 제조에 사용됩니다.
질문: 금 팔라듐 (Au/Pd) 스퍼터링 타겟의 주요 속성은 무엇인가요?
답변: 이 타겟은 높은 순도(≥99%)와 잘 제어된 Au/Pd 조성을 제공하며, 맞춤형 모양으로 제공됩니다. 인듐 및 엘라스토머와의 특수 결합은 스퍼터링 중 뛰어난 안정성을 제공합니다.
질문: 타겟의 모양을 맞춤형으로 만들 수 있나요?
답변: 예, 제품은 표준 디스크 형태로 제공되며, 특정 응용 요구사항을 충족하기 위해 맞춤 제작할 수 있습니다.
질문: Au/Pd 스퍼터링 타겟을 일반적으로 사용하는 산업은 무엇인가요?
답변: 반도체 제조, 마이크로 전자 공학, 광학 코팅 생산 및 다양한 R&D 응용 분야에서 진공 증착 공정이 포함됩니다.
질문: 스퍼터링 타겟은 어떻게 보관하고 취급해야 하나요?
답변: 타겟은 오염을 방지하기 위해 깨끗하고 건조한 환경에 보관해야 합니다. 표면의 무결성을 유지하고 증착 중 최적의 성능을 보장하기 위해 신중한 취급이 필요합니다.