Arsenic Triselenide Sputtering Target Description
As₂Se₃ 스퍼터링 타겟은 고급 산업 응용을 위한 정밀성을 위해 설계되었습니다. 순도 ≥99%로 제작된 이 타겟은 디스크 형태로 제공되거나 특정 제조 요구에 맞춰 커스터마이즈된 크기로 이용 가능합니다. 독특한 조성과 통제된 가공 과정은 스퍼터링 과정 중 우수한 안정성과 성능을 보장합니다. 이 타겟은 박막 증착, 적외선 광학 및 반도체 장치 제조 분야에 적합합니다.
Arsenic Triselenide Sputtering Target Applications
· 박막 증착: 장치 제조에서 균일한 반도체 필름 생산에 이상적입니다.
· 포토닉스: 적외선 광학 구성요소를 위한 칼코겐 화합물 유리 생산에 사용됩니다.
· 적외선 광학: 적외선 전송 요소 및 센서의 소스 재료로 활용됩니다.
· 반도체 제조: 집적 회로 및 마이크로전자 장치 가공에 필요한 고순도 필름을 제공합니다.
Arsenic Triselenide Sputtering Target Packing
당사의 As₂Se₃ 스퍼터링 타겟은 제품의 무결성을 유지하고 운송 중 오염을 방지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 포장 옵션으로는 진공 밀봉 용기와 고객 요구 사항에 따른 맞춤형 포장 솔루션이 포함됩니다.
Frequently Asked Questions
Q: As₂Se₃ 스퍼터링 타겟의 고성능을 보장하는 요인은 무엇인가요?
A: 고순도(≥99%) 및 통제된 제조 과정이 일관된 소재 특성과 신뢰할 수 있는 성능을 보장합니다.
Q: 타겟의 형태와 크기는 커스터마이즈할 수 있나요?
A: 네, 표준 디스크 형태 외에도 당사의 스퍼터링 타겟은 특정 설계 및 운영 요구에 맞춰 커스터마이즈 가능합니다.
Q: As₂Se₃ 스퍼터링 타겟에 가장 적합한 응용 분야는 무엇인가요?
A: 박막 증착, 포토닉스, 적외선 광학 및 반도체 제조 분야에서 정밀하고 안정적인 소재 특성이 필수적입니다.
Q: 스퍼터링 타겟은 어떻게 취급하고 보관해야 하나요?
A: 타겟은 적절한 청결 도구를 사용하여 주의 깊게 취급해야 하며 오염 및 수분 흡수를 방지하기 위해 통제된 환경에서 보관해야 합니다.
Q: 기존 공정에 이 스퍼터링 타겟을 통합하는 데 기술 지원이 제공되나요?
A: 네, 당사의 기술 지원 팀은 제품 통합, 공정 최적화 및 최적 성능 보장을 위한 문의에 대해 지원합니다.