니켈 황화물 스퍼터링 타겟 설명
니켈 황화물 스퍼터링 타겟, NiS는 스퍼터링 응용에서 최적의 성능을 위해 설계되었습니다. 순도가 ≥99%인 이 타겟은 균일하고 신뢰할 수 있는 얇은 필름 증착을 보장합니다. 디스크 형태로 제공되거나 맞춤형 솔루션으로 제공되며, 반도체 장치, 디스플레이 기술 및 기타 고신뢰성 응용을 위한 정밀 제조에 이상적입니다.
니켈 황화물 스퍼터링 타겟 응용
· 얇은 필름 증착: 반도체 장치, 디스플레이 및 태양전지 제작에 필수적입니다.
· 표면 코팅: 내구성 있는 코팅을 적용하여 보호 및 장식 용도로 사용됩니다.
· 전자기기 제조: 고성능 전자 부품 생산에 중요한 역할을 합니다.
· 연구 및 개발: 재료 과학 및 나노 기술의 실험적 설정에 적합한 재료입니다.
니켈 황화물 스퍼터링 타겟 포장
니켈 황화물 스퍼터링 타겟, NiS는 배송 및 저장 중 고품질 상태를 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 맞춤형 크기도 가능하며, 오염 및 물리적 손상으로부터 보호하도록 설계된 포장입니다.
자주 묻는 질문
Q: 스퍼터링 타겟은 무엇에 사용되나요?
A: 스퍼터링 타겟은 반도체, 디스플레이 및 다양한 첨단 재료 응용 프로그램에서 기판에 균일한 코팅을 생성하기 위한 얇은 필름 증착 과정에 사용됩니다.
Q: 니켈 황화물 스퍼터링 타겟의 높은 순도 (≥99%)는 어떻게 유지되나요?
A: 이 타겟은 일관된 순도 및 성능을 보장하기 위해 고급 제조 기술을 사용하여 엄격한 품질 관리 조건 하에서 생산됩니다.
Q: 스퍼터링 타겟의 형태는 맞춤 제작이 가능한가요?
A: 네, 제품은 표준 디스크 형태로 제공되거나 특정 요구 사항과 응용에 맞춰 맞춤 제작 가능합니다.
Q: 니켈 황화물 스퍼터링 타겟을 사용하는 산업은 어떤 것이 있나요?
A: 전자기기, 반도체 제조, 태양전지 생산 및 첨단 재료 연구와 같은 산업이 높은 성능의 장점을 제공합니다.
Q: 니켈 황화물 스퍼터링 타겟은 어떻게 보관해야 하나요?
A: 오염 및 물리적 손상을 방지하기 위해 통제된 깨끗한 환경에서 보관하는 것이 권장됩니다. 이는 사용 시 최적의 성능을 보장합니다.