니오븀 타겟(Nb 타겟) 설명
니오븀 타겟(Nb 타겟 )은 다양한 형태, 순도, 크기 및 가격으로 제공됩니다. 일반적으로 연료 전지, 장식, 반도체, 디스플레이, LED 및 태양광 장치, 유리 코팅 등의 박막 증착에 사용됩니다.
니오븀 타겟(Nb 타겟) 사양
니오븀 타겟(Nb 타겟) 크기:
재질: RO4200, RO4210
Size:
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원형 디스크/타겟
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직경: 10-400mm
두께: 2-28mm
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직사각형 디스크/타겟
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두께: 1mm ~ 최대 20.32mm
폭: 최대 800mm
길이: 최대 3000mm
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순도: 99.9%
니오븀 타겟(Nb 타겟) 기술 파라미터:
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재결정화
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95%분
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입자 크기
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ASTM 4 또는 더 미세
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표면 마감
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최대 16Rms 또는 Ra 0.4(RMS64 이상)
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평탄도
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0.1mm 또는 최대 0.15%
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공차
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모든 치수에서 +/-0.010"
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니오븀 타겟(Nb 타겟) 애플리케이션
니오븀 타겟은 전자, 광학 코팅 및 초전도 재료용 박막 생산에 필수적입니다. 반도체, 태양전지, 광학 렌즈에 고성능 층을 만들기 위해 스퍼터링 및 증착 공정에 사용됩니다. 우수한 특성 덕분에 첨단 기술 응용 분야에서 내구성과 효율성을 보장합니다.
