파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도 설명
파이로리틱 그래파이트 (기판 유도) 디스크는 진공로에서 극도로 고온에서 탄화수소 가스를 분해하여 제조됩니다. 그 결과로 얻어지는 제품은 이론 밀도에 가까운 초순수하고 매우 이방성이 있습니다.
물질은 기판에서 성장하여 층상 구성을 형성합니다. 이는 또한 다양한 평면에서 다른 성질을가진다는 것을 의미합니다. C-면(층 간)에서는 열전도율이 낮고 절연체로 작용합니다. A-B 면(층과 함께)에서는 매우 높은 열전도율을 가지고, 우수한 전도체로 작용합니다.
파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도 사양
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크기
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맞춤형
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등급
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PG-SN
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밀도 (g/cm3)
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2.2
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처짐 강도 (MPa)
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89.6
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압축 강도 (kg/cm2)
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103.4
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열 전도율 (W/(m2·K/m)
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400
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산화 분위기 (℃)
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649
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파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도 응용
파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도는 주로 가스 노즐, 열 싱크, 이온 주입 하드웨어 등을 제조하는 데 사용됩니다.
파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도 포장
우리의 파이로리틱 그래파이트 디스크, 기판 유도는 보관 및 운송 중 품질을 유지하기 위해 신중하게 처리됩니다.
사양
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Size
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맞춤형
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Grade
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FC-GR
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Density (g/cm3)
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1.90
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Flexural Strength (MPa)
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55
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Compressive Strength (MPA)
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110
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Shore Hardness
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62
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Electrical Conductivity (In-plane)
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12 μΩm
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*위 제품 정보는 이론적인 데이터를 기반으로 하며 참고용입니다. 실제 사양은 다를 수 있습니다.