몰리브덴 로타리 타겟 설명
Stanford Advanced Materials (SAM)는 평면 디스플레이, 태양 전지 및 광학 코팅을 포함한 고급 박막 증착 응용을 위해 고순도 몰리브덴 로타리 타겟을 제공합니다. 이 타겟은 고순도 몰리브덴으로 제조되어 우수한 전기 전도성, 열 안정성 및 균일한 필름 형성을 보장합니다.
로타리 디자인은 평면 타겟에 비해 재료 활용도를 크게 증가시켜 서비스 수명을 연장하고 생산 비용을 절감합니다. 몰리브덴의 높은 융해점과 우수한 열 전도성은 고온 및 고진공 환경에서도 안정적인 성능을 허용하여 까다로운 코팅 공정에 적합합니다.
SAM은 다양한 스퍼터링 시스템의 요구를 충족하기 위해 다양한 크기 및 사양의 몰리브덴 로타리 타겟을 제공합니다. 정밀한 제조와 엄격한 품질 관리를 통해 SAM은 타겟이 일관되고 신뢰할 수 있는 성능을 제공하며, 여러 산업에서 효율적이고 비용 효과적인 박막 증착을 지원합니다.
몰리브덴 로타리 타겟 사양
특성
밀도
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≥10.15 g/cm3
|
평균 결정 크기
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≤100 um
|
거칠기
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≤0.8 um
|
평탄도
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≤0.30 mm
|
결합율
|
≥98%
|
화학 조성 %
주 성분,
%, min
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Mo
|
99.95
|
99.97
|
불순물 성분
(질량 분율),
%, max
|
Al
|
0.0050
|
0.0010
|
Ca
|
0.0020
|
0.0020
|
Cr
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0.0100
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0.0020
|
Cu
|
0.0020
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0.0020
|
Fe
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0.0050
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0.0020
|
K
|
-
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0.0020
|
Mg
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0.0020
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0.0010
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Na
|
-
|
0.0010
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Ni
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0.0050
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0.0010
|
Si
|
0.0050
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0.0020
|
W
|
0.0300
|
0.0300
|
S
|
0.0050
|
-
|
Cd
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0.0001
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-
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C
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0.0100
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0.0030
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O
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0.0080
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0.0040
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N
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0.0030
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0.0010
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*위 제품 정보는 이론적 데이터에 기반합니다. 특정 요구 사항 및 구체적인 문의는 저희에게 연락하십시오.
크기 (mm)
로타리
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G6
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φ135/167*2158
|
G8.5
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φ135/167*2692
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*맞춤형 크기도 요청 시 제공됩니다. 자세한 내용은 저희에게 문의하십시오.
몰리브덴 로타리 타겟 응용
- 평면 디스플레이 (TFT-LCD 및 OLED): 박막 트랜지스터 (TFT)의 전극층 제작에 사용되어 전시 성능을 위한 높은 전도성과 안정성을 보장합니다.
- 태양 전지 (CIGS 및 박막 태양전지): 구리 인듐 갈륨 셀레나이드 (CIGS) 태양전지의 후방 접촉층으로 사용되어 효율성과 내구성을 향상시킵니다.
- 광학 코팅: 고정밀 광학 및 전자 장치에 대한 반사 방지 및 전도성 코팅에 적용됩니다.
- 반도체 및 마이크로전자: 반도체 제작을 위한 장벽 및 상호 연결층에 사용되어 고온 안정성과 신뢰성을 제공합니다.
- 터치 패널: 몰리브덴 합금 (예: MoNb)은 내식성과 성능이 향상된 터치 패널 센서 전극에 사용됩니다.
몰리브덴 로타리 타겟 포장
제품은 재료 크기에 따라 다양한 크기의 맞춤형 박스에 포장됩니다. 소형 제품은 PP 박스에 안전하게 포장되고, 대형 제품은 맞춤형 나무 상자에 배치됩니다. 우리는 포장 맞춤화와 적절한 완충 재료 사용에 대한 엄격한 준수를 보장하여 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 박스, 나무 상자 또는 맞춤형.
제조 과정
1. 간단한 제조 과정 흐름

2. 시험 방법
- 화학 조성 분석 - GDMS 또는 XRF와 같은 기술을 사용하여 순도 요구 사항 준수를 확인합니다.
- 기계적 특성 시험 - 인장 강도, 항복 강도 및 연신율 시험을 포함하여 재료 성능을 평가합니다.
- 치수 검사 - 두께, 너비 및 길이를 측정하여 지정된 허용 오차 준수를 확인합니다.
- 표면 품질 검사 - 시각적 및 초음파 검사를 통해 스크래치, 균열 또는 포함물과 같은 결함을 확인합니다.
- 경도 시험 - 재료 경도를 측정하여 균일성과 기계적 신뢰성을 확인합니다.
몰리브덴 로타리 타겟 FAQ
Q1: 로타리 스퍼터링 타겟을 평면 타겟보다 사용하는 장점은 무엇입니까?
A1: 로타리 타겟은 평면 타겟에 비해 재료 활용도가 높고(80% 이상) 서비스 수명이 길어 재료 낭비 및 전반적인 생산 비용을 줄입니다.
Q2: 어떤 산업에서 몰리브덴 로타리 타겟을 일반적으로 사용합니까?
A2: 이 타겟은 평면 디스플레이 (TFT-LCD 및 OLED), 태양 전지 (CIGS 박막 태양광), 광학 코팅, 반도체 제조 및 터치 패널 기술 등에서 널리 사용됩니다.
Q3: 몰리브덴 로타리 타겟을 맞춤화할 수 있습니까?
A3: 네, 다양한 스퍼터링 시스템 및 고객 사양에 맞게 맞춤형 크기, 두께 및 결합 옵션을 제공합니다.
경쟁 제품과의 성능 비교표
몰리브덴 로타리 타겟 vs. 몰리브덴 평면 타겟
특징
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몰리브덴 로타리 타겟
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몰리브덴 평면 타겟
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재료 활용도
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최대 80-90%
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약 30-40%
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서비스 수명
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더 길어 교체 빈도가 줄어듭니다.
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짧아 자주 교체해야 합니다.
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코팅 균일성
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더 균일하여 대면적 코팅에 적합합니다.
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두께 변동이 있을 수 있습니다.
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생산 비용
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초기 비용이 높지만 장기적으로 경제적입니다.
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초기 비용이 낮지만 더 자주 교체해야 합니다.
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응용 분야
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대면적 코팅 (TFT-LCD, 태양 전지, 광학 코팅)
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소면적 코팅 (반도체, 정밀 전자)
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스퍼터링 안정성
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보다 안정적이며 자재 손실을 줄입니다.
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불균형 마모로 인해 덜 안정적일 수 있습니다.
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호환 장비
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로타리 스퍼터링 시스템이 필요합니다.
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전통적인 평면 스퍼터링 시스템과 호환됩니다.
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관련 정보
- 원자재-몰리브덴
몰리브덴 (Mo)은 고온에서의 내구성과 전기 전도성이 뛰어난 내화성 금속입니다. 이 금속은 극한 조건에서도 강도와 안정성을 유지하는 것으로 알려져 있으며, 다양한 산업 응용에 필수적입니다.
주요 특성:
원자 번호: 42
원자량: 95.95
밀도: 10.28 g/cm³
융해점: 2,617°C (4,723°F)
비등점: 4,639°C (8,382°F)
열 전도율: 138 W/m·K
몰리브덴 응용:
전자 및 박막 코팅: TFT-LCD 디스플레이, 태양 전지 및 반도체 구성 요소의 스퍼터링 타겟으로 사용됩니다.
항공 우주 및 고온 환경: 비행기 및 로켓 부품을 위한 고성능 합금에 적용됩니다.
에너지 산업: 원자력 발전, 전력 생성 및 고온로에 필수적입니다.
강철 및 금속 합금: 스테인리스강 및 초합금에서 강도, 경도 및 내식성을 향상시킵니다.
화학 산업: 석유 정제 및 화학 가공에서 촉매 역할을 합니다.
몰리브덴의 고온 안정성, 내구성 및 전도성의 독특한 조합은 특히 고급 제조 및 기술 응용 분야에서 귀중한 재료로 만듭니다.
사양
특성
밀도
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≥10.15 g/cm3
|
평균 입자 크기
|
≤100 um
|
거칠기
|
≤0.8 um
|
평탄도
|
≤0.30 mm
|
결합률
|
≥98%
|
화학 성분, %
주 성분,
%, 최솟값
|
Mo
|
99.95
|
99.97
|
불순물 함량
(질량 분율),
%, 최댓값
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Al
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0.0050
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0.0010
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Ca
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0.0020
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0.0020
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Cr
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0.0100
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0.0020
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Cu
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0.0020
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0.0020
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Fe
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0.0050
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0.0020
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K
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-
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0.0020
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Mg
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0.0020
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0.0010
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Na
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-
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0.0010
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Ni
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0.0050
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0.0010
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Si
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0.0050
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0.0020
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W
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0.0300
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0.0300
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S
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0.0050
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-
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Cd
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0.0001
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-
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C
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0.0100
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0.0030
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O
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0.0080
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0.0040
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N
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0.0030
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0.0010
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*위의 제품 정보는 이론적 데이터에 기반합니다. 특정 요구 사항 및 자세한 문의는 저희에게 연락하십시오.
사이즈 (mm)
로터리
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G6
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φ135/167*2158
|
G8.5
|
φ135/167*2692
|
*맞춤형 크기도 요청 시 가능합니다. 자세한 사항은 저희에게 문의하십시오.