크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) 설명
크롬 셀레나이드 (CrSe) 스퍼터링 타겟은 크롬의 견고한 물리적 안정성과 셀레늄의 반도체 특성을 결합한 고성능 세라믹 화합물로, 박막 증착에 적합합니다. 고온 프레스 또는 진공 소결과 같은 고급 기술을 통해 제조되며, 타겟은 일반적으로 높은 밀도와 낮은 다공성을 특징으로 하여 스퍼터링 중 균일한 침식률과 일관된 필름 품질을 보장합니다. 비교적 높은 융점과 우수한 열 안정성을 가지고 있어 고전력 증착 환경에서도 물질의 손상 없이 견딜 수 있습니다. 이 소재는 화학적 호환성이 우수하며 비활성 및 반응성 대기에서 구조적 무결성을 유지합니다. CrSe 타겟은 또한 안정적인 전기적 특성과 자기 반응성을 제공하며, 고른 미세 구조로 다양한 기판에서 매끄럽고 결함이 없는 필름 형성에 기여합니다.
크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) 사양
속성
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재료
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CrSe
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순도
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99.9%
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CAS
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12053-13-3
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융점
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1500 °C
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밀도
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6.74 g/cm3
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형태
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평면 디스크
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*위의 제품 정보는 이론적 데이터에 기반합니다. 특정 요구 사항 및 자세한 문의는 저희에게 연락해 주십시오.
크기: 맞춤형
크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) 응용
- 크롬 셀레나이드 (CrSe) 타겟은 반도체, 광전자 및 자석 광학 장치 분야의 다양한 고급 응용에 사용됩니다. 적외선 감지기, 태양전지 및 스핀트로닉 구성 요소를 위한 층을 만드는 박막 증착 공정에서 활용됩니다. 이 소재의 반도체 및 자기적 특성은 이차원 소재 및 양자 전자공학 연구에 가치를 더합니다. 또한 CrSe 박막은 에너지 저장 장치에 사용되거나 혹독한 환경에서 보호 또는 기능성 코팅으로 적용될 수 있습니다.
크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) 포장
당사 제품은 재료 치수를 기반으로 다양한 크기의 맞춤형 카톤에 포장됩니다. 소형 품목은 PP 상자에 안전하게 포장되며, 대형 품목은 맞춤형 나무 박스에 담겨집니다. 운송 중 최적의 보호를 제공하기 위해 포장 맞춤화 및 적절한 완충 재료 사용을 엄격히 준수합니다.
포장: 카톤, 나무 상자 또는 맞춤형.
제조 과정
1. 간단한 제조 과정 흐름
2. 시험 방법
- 화학 조성 분석 - GDMS 또는 XRF와 같은 기술을 사용하여 순도 요구 사항 준수 여부를 확인합니다.
- 기계적 성질 시험 - 인장 강도, 항복 강도 및 연신율 시험을 포함하여 재료 성능을 평가합니다.
- 치수 검사 - 두께, 너비 및 길이를 측정하여 규정된 공차 준수 여부를 확인합니다.
- 표면 품질 검사 - 비주얼 및 초음파 검사로 흠집, 균열 또는 포함물과 같은 결함을 체크합니다.
- 경도 시험 - 재료의 경도를 측정하여 균일성과 기계적 신뢰성을 확인합니다.
크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) FAQ
Q1: 크롬 셀레나이드 (CrSe) 스퍼터링 타겟의 수명에 영향을 미치는 요소는 무엇입니까?
A1: 타겟 수명은 스퍼터링 전력, 증착 환경, 타겟 두께 및 냉각 효율성과 같은 요소에 따라 달라집니다. 적절한 시스템 보정과 균일한 전력 분포가 서비스 수명을 연장하는 데 도움이 됩니다.
Q2: CrSe 타겟을 사용할 때 균일한 필름 두께를 어떻게 보장할 수 있습니까?
A2: 균일한 필름 두께는 타겟 품질 (밀도, 균질성), 기판 회전, 작동 거리 및 스퍼터링 압력과 같은 매개변수에 따라 결정됩니다. SAM의 CrSe와 같은 고밀도 타겟은 침식 균일성이 향상됩니다.
Q3: CrSe 타겟을 장착하기 위한 본딩 옵션은 무엇이 있습니까?
A3: CrSe 타겟은 시스템 유형 및 열 요구 사항에 따라 인듐, 엘라스토머 또는 고온 접착제로 본딩할 수 있습니다. SAM은 귀하의 백 플레이트 및 시스템 호환성에 따라 본딩 서비스를 제공합니다.
경쟁 제품과의 성능 비교 표
크롬 셀레나이드 타겟 (CrSe) 대 경쟁 재료: 성능 비교
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속성
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CrSe 타겟
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MoSe₂ 타겟
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WSi₂ 타겟
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CrN 타겟
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Ta 타겟
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순도
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≥99.95% (금속 기준)
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≥99.9%
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≥99.5% (Si/W 비율 변동)
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≥99.8%
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≥99.99% (고순도 Ta)
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밀도
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6.2-6.5 g/cm³ (이론적 ~95%)
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5.0-5.2 g/cm³ (~90%)
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9.3-9.6 g/cm³ (~92%)
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6.1-6.3 g/cm³ (~94%)
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16.6 g/cm³ (~99%)
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입자 크기
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≤10 μm (HIP를 통해 제어됨)
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15-30 μm (CVD 유도)
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20-50 μm (분말 야금)
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≤5 μm (나노 결정질)
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≤50 μm (고순도 주물)
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스퍼터링 속도
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150-200 nm/min (DC, 500W)
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80-120 nm/min (RF, 300W)
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100-150 nm/min (DC, 400W)
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200-250 nm/min (DC, 600W)
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50-80 nm/min (고전력)
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기판에 대한 접착력
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강력함 (SiO₂/Si, Ra <0.5 nm)
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보통 (박리 위험)
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보통 (스트레스 균열)
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우수함 (경질 코팅)
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약함 (중간층 필요)
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아크 발생 경향
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낮음 (밀도가 높은 미세 구조)
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높음 (층화 결함)
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보통 (다공성)
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매우 낮음 (고밀도)
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보통 (산화물 형성)
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열 전도도
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20-25 W/m·K (열 방출)
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10-15 W/m·K
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관련 정보
- 원재료 - 크롬 (Cr)
크롬은 높은 융점 (1907°C), 우수한 경도 및 안정적인 보호 산화층 형성을 통해 내식성이 뛰어난 경량 금속입니다. 합금 및 화합물 스퍼터링 타겟에서 마모 저항성과 산화 저항성을 향상시켜 고온 및 혹독한 환경에서의 응용에 이상적입니다.
- 원재료 - 셀레늄 (Se)
셀레늄은 반도체 특성과 광전도성을 가진 비금속 원소로, 박막 전자 및 태양광 재료에서 널리 사용됩니다. 금속과 안정적인 화합물을 형성하며, 스퍼터링 과정에서 정확한 밴드갭 조정 및 화학 반응성을 제공합니다.
사양
속성
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재료
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CrSe
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순도
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99.9%
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CAS
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12053-13-3
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융점
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1500 °C
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밀도
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6.74 g/cm3
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형태
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평면 디스크
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*상기 제품 정보는 이론적 데이터에 기반합니다. 특정 요구 사항 및 자세한 문의는 저희에게 연락해 주시기 바랍니다.
크기: 맞춤형
글쓰기
변환기 및 계산기
