불화 리튬 결정 기판에 대한 설명
리튬 플루오 라이드 결정 (LiF)은 입방계에 속하며 절단면은 (100) 평면으로 특히 심 자외선 범위에서 우수한 광학 특성을 가지고 있습니다. 최근 몇 년 동안 심자외선 기술의 발달로 불화 리튬 결정은 심자외선 영역에서 높은 투과율과 짧은 차단 파장으로 인해 심자외선에 널리 사용되고 있습니다.

불화 리튬 결정 기판의 사양
주요 성능 매개변수
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결정 구조
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큐빅
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격자 상수
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4.02 A
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밀도
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2.65 (g/cm3)
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녹는점
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884 °C
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성장 방법
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브릿지맨
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모스 경도
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3 Mohs
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열팽창 계수
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3.195 x 10-6/°C//c
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굴절률
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No=1.394; Ne=1.394
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전송 대역
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0.11-6.5um
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표준 방향
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<100>, <110>, <111>
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표준 크기
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5x5mm, 10x10mm, Dia1"(25.4mm), Dia4"(100mm)
또는 고객의 요구 사항에 따라
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표준 두께
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0.5mm, 1.0mm, 2.0mm, 5.0mm
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LiF 크리스탈 적용 분야
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IR 및 UV 창, 프리즘 및 기판
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폴리싱
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단면 폴리싱 또는 양면 폴리싱
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표면 품질
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에피 폴리싱(거칠기: Ra<5A(5 x 5um)) 광학 광택(표면 마감: 60-40, 40-20 또는 기타)
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불화 리튬 결정 기판의 응용 분야
최근 몇 년 동안 심자외선 기술의 발전으로 리튬 불화물 결정 기판은 심자외선 영역에서 높은 투과율과 짧은 차단 파장으로 인해 심자외선에 널리 사용됩니다.
불화 리튬(LiF) 결정 기판 패키지
리튬 불화(LiF) 결정 기판은 정전기 방지 보호층, 방습 밀봉, 충격 흡수 재료로 꼼꼼하게 포장되어 안전한 운송과 보관을 보장합니다. 각 패키지에는 국제 배송 표준을 충족하는 상세한 라벨링과 문서가 포함되어 있습니다.
자주 묻는 질문
Q1 LiF 결정 기판의 투명도 범위는 어떻게 되나요?
불화 리튬 결정은 120nm(진공 자외선)에서 10µm(적외선)의 범위에서 매우 투명하여 다양한 광학 애플리케이션에 적합합니다.
Q2 LiF 결정 기판은 고온 애플리케이션에 적합합니까?
예, LiF 기판은 최대 600°C의 고온을 견딜 수 있어 레이저 시스템 및 고온 박막 증착에 이상적입니다.
Q3 LiF 기판은 X-레이 및 VUV 애플리케이션에 적합합니까?
예, LiF 기판은 이러한 파장 범위에서 우수한 투과율과 낮은 흡수율로 인해 X-선 이미징 및 진공 자외선(VUV) 애플리케이션에 널리 사용됩니다.