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ST11179 코발트 철 탄탈륨 붕소 평면 타겟, CoFeTaB 타겟

카탈로그 번호.	ST11179
구성	CoFeTaB
순도	≥99.9% 또는 사용자 지정
양식	Target
모양	직사각형
치수	사용자 지정

코발트 철 탄탈륨 붕소 평면 타겟, CoFeTaB 타겟은 정밀한 원소 제어와 스퍼터링 증착에 최적화된 평평하고 균일한 표면으로 생산됩니다. Stanford Advanced Materials(SAM)는 생산 과정에서 분광 분석과 미세 구조 검사를 통해 합금 균질성을 모니터링합니다. 공정 파라미터를 엄격하게 측정하여 제어된 필름 침식 및 증착 속도를 유지함으로써 각 타겟이 공정 중에 일관된 성능을 제공할 수 있도록 보장합니다.

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FAQ

CoFeTaB 타겟의 평면 설계가 필름 증착 균일성을 어떻게 개선하나요?

평면 형상은 스퍼터링 중에 대상 표면 전체에 플라즈마가 균일하게 분포되도록 하여 국부적인 침식을 최소화하고 필름 두께를 일정하게 유지합니다. 이러한 균일성은 반도체 애플리케이션에서 증착된 필름의 성능 무결성을 유지하는 데 매우 중요합니다.

CoFeTaB 타겟 생산에는 어떤 품질 관리 조치가 시행되나요?

생산에는 일상적인 분광 분석과 상세한 미세 구조 검사가 포함됩니다. 이러한 조치를 통해 합금 조성과 타겟 표면 균일성을 검증하여 증착 성능의 편차를 줄입니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

특정 스퍼터링 시스템에 맞게 타겟 치수를 맞춤 설정할 수 있습니까?

예, 타겟 치수는 사용자 정의가 가능하므로 다양한 스퍼터링 장비 설계와 통합할 수 있습니다. 타겟 크기를 맞춤 설정하면 다양한 제조 설정에서 최적의 정렬과 증착 균일성을 확보할 수 있습니다.

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