마이크로 탄탈륨 분말(Ta) 1-10μm 설명
1-10μm의 마이크로 탄탈륨 분말(Ta) 은 군용 PM 제품 및 소결 필터 개발과 같은 전통 및 첨단 산업에서 다양하게 사용됩니다. 고순도, 균일한 입자 크기, 완전한 표면 구조, 쉬운 분산, 넓은 비표면적 및 높은 표면 활성이 특징입니다. 탄탈 커패시터는 군용 전자 제품 분야에서 가장 널리 사용되는 커패시터 제품입니다. 전자 제품의 크기는 점점 작아지고 있으며 탄탈 커패시터는 소형화 및 고용량 방향으로 발전해야 합니다.
마이크로 탄탈륨 분말(Ta) 1-10μm 사양
- Ta(1-10um)
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Ta (%)
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Ti(%)
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W(%)
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Mo (%)
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Cr (%)
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Fe (%)
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O (%)
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>99.9
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<0.001
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<0.001
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<0.001
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<0.0001
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<0.01
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<0.08
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구형도(%)
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입자 크기 분포(um)
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탭 밀도(g/cm3)
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D10
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D50
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D90
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>94
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>1
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5±2
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<10
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≥10.5
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마이크로 탄탈륨 분말(Ta) 1-10μm 응용 분야
1. 커패시터: 마이크로 탄탈륨 분말의 주요 용도 중 하나는 전자 장치에 널리 사용되는 탄탈륨 커패시터 생산에 사용됩니다. 탄탈룸 커패시터는 높은 정전 용량, 신뢰성 및 안정성으로 인해 스마트폰, 노트북, 의료 기기, 자동차 전자 장치 및 항공 우주 시스템에서 필수적인 부품으로 평가받고 있습니다.
2. 항공우주 및 방위산업: 마이크로 탄탈륨 분말은 높은 융점, 내식성, 고온에서의 강도로 인해 항공우주 및 방위 분야용 초합금 및 고성능 소재 생산에 사용됩니다. 이러한 소재는 제트 엔진, 로켓 부품 및 극한의 조건을 견뎌야 하는 기타 중요한 시스템에 사용됩니다.
3. 의료용 임플란트: 탄탈륨은 생체 적합성과 부식에 대한 저항성이 뛰어나 마이크로 탄탈륨 분말은 의료용 임플란트에 사용하기에 이상적입니다. 고관절 및 무릎 인공관절과 같은 정형외과용 임플란트뿐만 아니라 치과용 임플란트 및 수술 기구 제조에 사용됩니다.
4. 적층 제조(3D 프린팅): 적층 제조에서는 마이크로 탄탈륨 분말을 사용하여 정밀한 형상의 복잡한 고강도 부품을 제작합니다. 이는 특히 내구성이 뛰어난 맞춤형 부품이 필요한 항공우주, 의료, 전자 등의 산업에서 유용합니다.
5. 스퍼터링 타겟: 마이크로 탄탈륨 분말은 반도체 제조에서 박막 증착을 위한 스퍼터링 타겟을 생산하는 데 사용됩니다. 이러한 박막은 집적 회로, 디스플레이 및 기타 마이크로 전자 장치를 만드는 데 필수적입니다.
6. 화학 처리 장비: 산에 의한 부식에 대한 탄탈륨의 뛰어난 내식성으로 인해 마이크로 탄탈륨 분말은 열교환기, 원자로, 배관 시스템과 같은 화학 처리 장비 생산의 핵심 소재가 되었습니다. 이러한 부품은 화학 처리, 제약, 석유 화학 등 부식성이 강한 환경을 다루는 산업에서 사용됩니다.
7. 원자력 산업: 탄탈륨은 밀도가 높고 중성자를 흡수하는 능력이 뛰어나 원자력 산업에서 유용합니다. 마이크로 탄탈륨 분말은 원자로용 부품을 생산하는 데 사용되어 중성자 플럭스를 관리하고 원자력 시스템의 안전과 효율성에 기여합니다.
8. 정형외과용 코팅: 마이크로 탄탈륨 분말은 정형외과용 임플란트의 코팅으로 적용되어 뼈의 결합을 강화하고 마모를 줄입니다. 파우더에 의해 생성된 다공성 구조는 임플란트의 조직 부착력과 장기적인 안정성을 향상시킵니다.
9. 고온 응용 분야: 마이크로 탄탈륨 분말은 용광로와 같이 고온에서 작동하는 부품의 생산에 사용되며, 안정성과 산화에 대한 저항성이 매우 중요합니다.
10. 모세관 및 가는 전선: 탄탈륨의 연성 덕분에 마이크로 탄탈륨 분말은 과학 기기, 전자 및 통신에 사용되는 모세관 및 가는 전선 생산에 사용될 수 있습니다.
마이크로 탄탈륨 분말(Ta) 1-10μm 포장
마이크로 탄탈룸 파우더(Ta) 1-10μm는 보관 및 운송 과정에서 세심하게 취급하여 제품의 품질을 원래 상태로 보존합니다.
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