| 카탈로그 번호. | ST0197 |
| 구성 | TiO₂ |
| CAS 번호 | 13463-67-7 |
| 순도 | 99.5% / 99.9% / 99.99%(사용자 지정 가능) |
| 모양 | 디스크 또는 맞춤형 |
| 지름 | 2", 3", 4", 5", 6" 또는 맞춤형 |
| 두께 | 0.25", 0.125" 또는 맞춤형 |
| 채권 유형 | 구리 또는 맞춤형 |
| 동의어 | 이산화티타늄 스퍼터링 타겟, TiO2 타겟 |
이산화티타늄(TiO2) 스퍼터링 타겟은 특정 박막 요구 사항을 충족하는 루틸 또는 아나타제 결정상 옵션과 함께 99.5%~99.99%의 순도 등급으로 제공됩니다. 당사의 타겟은 핫 프레스 기술을 사용하여 제조되어 안정적이고 일관된 스퍼터링 성능을 위해 고밀도 및 미세 입자 크기를 달성합니다.
관련 제품 ITO(인듐 주석 산화물) 스퍼터링 타겟, 산화아연(ZnO) 스퍼터링 타겟, 탄탈륨 펜톡사이드(Ta2O5) 스퍼터링 타겟
A: 다양한 응용 분야 요구 사항을 충족하기 위해 여러 순도 등급을 제공합니다: 일반 산업용 99.5%, 전자 부품용 99.9%, 반도체 및 고급 광학 코팅용 99.99%. 요청 시 맞춤형 순도 등급도 제공됩니다.
A: 타겟은 RF 및 RF-R 스퍼터링 기술과 모두 호환되므로 박막 증착 공정에서 유연성을 제공합니다.
A: 예, 타겟은 표준 디스크 형태는 물론 특정 산업 요구 사항을 충족하는 맞춤형 모양으로 제공됩니다.
A: 1843℃의 높은 융점은 고출력 스퍼터링 시 열 안정성을 보장하여 변형의 위험을 줄이고 타겟의 작동 수명을 연장합니다.
A: 오염을 방지하고 고순도를 유지하기 위해 서늘하고 건조한 환경, 이상적으로는 진공 밀봉 포장된 상태로 보관하는 것이 좋습니다.
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