이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟 설명
이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟은 99% 이상의 순도로 최고의 기준에 따라 제조되어 스퍼터링 응용 분야에서 우수한 성능을 보장합니다. 디스크 형태로 생산되거나 고객 사양에 따라 맞춤 제작되며, 이 타겟은 박막 증착 공정에서 뛰어난 열 안정성과 균일성을 제공합니다. 반도체 제조, 광학 코팅 및 정밀한 필름 품질과 재현성이 필수적인 첨단 전자 제품에 사용하도록 설계되었습니다. 이 타겟의 견고한 물리적 특성은 고전력 조건에서도 무결성을 유지할 수 있도록 하여 중요한 산업 환경에서 신뢰할 수 있는 선택이 됩니다.
이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 반도체 소자 제조: 집적 회로 및 마이크로전자 분야에서 고품질 박막 보장.
· 광학 코팅: 광학 구성 요소에 반사 또는 비반사 코팅 생산에 탁월.
· 디스플레이 기술: 정밀한 필름 증착을 통해 디스플레이와 터치스크린 제조에 사용.
· 태양 전지: 광전지 장치에서 고효율 층 생성에 적합.
· 광촉매: 자가 청소 표면 및 환경 정화 시스템에 적용.
이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟 포장
이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟은 오염을 방지하기 위해 최대한 신중하게 포장됩니다. 각 타겟은 보호 포장재로 진공 밀폐되어 있으며, 고객의 요구 사항에 따라 5kg 백 또는 대량 주문 옵션이 제공됩니다. 제품 운반 및 보관 중 무결성을 보장하기 위한 맞춤형 포장 솔루션도 가능합니다.
자주 묻는 질문
Q: 이산화티탄 (TiO₂) 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체 소자 제조, 광학 코팅, 디스플레이 기술, 태양 전지 및 광촉매 응용 분야에 사용됩니다.
Q: 이 타겟과 호환되는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF 및 RF-R 스퍼터링 기술 모두와 호환되며, 박막 증착 공정에서 유연성을 제공합니다.
Q: 사용자 정의 형상 및 크기로 타겟을 주문할 수 있나요?
A: 네, 이 타겟은 표준 디스크 형태로 제공되며 특정 산업 요구에 맞춰 맞춤 제작이 가능합니다.
Q: 높은 녹는점이 타겟 성능에 어떤 이점을 주나요?
A: 1,843℃의 높은 녹는점은 고전력 스퍼터링 동안 열 안정성을 보장하며, 변형 위험을 줄이고 타겟의 운영 수명을 연장합니다.
Q: 제품 품질 유지를 위한 저장 조건은 무엇인가요?
A: 타겟은 서늘하고 건조한 환경, 이상적으로는 진공 밀폐 포장 상태에서 보관하는 것이 권장됩니다. 이는 오염을 방지하고 높은 순도를 유지하는 데 도움이 됩니다.