붕소질화물(BN) 스퍼터링 타겟 설명
붕소질화물(BN) 스퍼터링 타겟은 고순도와 뛰어난 성능을 중심으로 제작되었습니다. 우수한 열 안정성, 높은 녹는점 및 맞춤형 결합 옵션은 중요 얇은 필름 증착 공정에서 신뢰할 수 있는 선택이 됩니다. 진보된 제조 기술을 활용하여, 본 타겟은 까다로운 환경에서도 균일한 스퍼터링 성능과 최적의 필름 품질을 보장합니다.
붕소질화물(BN) 스퍼터링 타겟 응용 분야
· 얇은 필름 증착: 반도체 및 광학 장치에서 고품질 얇은 필름 제작에 이상적입니다.
· 마이크로전자 장치 제조: 마이크로 전자 제품에서 절연 및 버퍼층 증착 공정을 지원합니다.
· 고급 코팅: 높은 열 안정성이 필요한 보호 코팅에 사용됩니다.
· 연구 개발: 재료 과학 및 표면 공학에서 실험 연구에 적합한 소재입니다.
· 맞춤형 산업 응용: 다양한 고성능 산업의 특정 요구사항을 충족하도록 맞춤 제작됩니다.
붕소질화물(BN) 스퍼터링 타겟 포장
우리의 BN 스퍼터링 타겟은 저장 및 운송 중 무결성을 유지하기 위해 신중하게 포장됩니다. 표준 포장 옵션에는 디스크를 위한 진공 밀폐 구성 또는 고객이 지정한 맞춤형 형태가 포함됩니다. 대량 주문의 경우, 제품 품질이 손상되지 않도록 특수 포장을 조정할 수 있습니다.
자주 묻는 질문
Q: BN 스퍼터링 타겟의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
A: 주로 반도체, 광학 및 전자 장치 제조에서 얇은 필름 증착에 사용됩니다.
Q: 이 타겟과 호환되는 스퍼터링 방법은 무엇인가요?
A: 이 타겟은 RF 및 RF-R 스퍼터링 방법과 호환됩니다.
Q: 타겟의 고순도(≥99%)가 증착 과정에 어떤 이점을 제공하나요?
A: 고순도는 오염을 최소화하여 필름 품질과 최종 응용의 신뢰성을 향상시킵니다.
Q: 타겟의 형태와 크기를 맞춤 제작할 수 있나요?
A: 네, 타겟은 표준 원형 형태로 제공되거나 특정 요구사항에 맞춰 맞춤 제작할 수 있습니다.
Q: 높은 녹는점(~2973℃)의 장점은 무엇인가요?
A: 높은 녹는점은 스퍼터링 과정 중 열 안정성을 보장하여 고온 응용에 적합합니다.