베릴륨 스퍼터링 타겟 설명
베릴륨 스퍼터링 타겟 (Be) 은 낮은 밀도(1.85 g/cm³), 높은 강성, 우수한 열전도율(~200 W/m·K) 및 낮은 열팽창 계수(~11.3 × 10⁻⁶/K)로 특징지어지는 고성능 소재입니다. 일반적인 순도는 99.9% 이상이며, 이는 스퍼터링 과정에서 화학적 안정성과 균일성을 보장합니다. 베릴륨은 또한 뛰어난 기계적 강도를 제공하며, 다양한 기계적 조정이 가능하여 다양한 증착 시스템에 맞는 형태와 크기로 정밀 가공할 수 있습니다. 높은 열전도율은 효율적인 열 방산을 가능하게 하며, 온도 변동에 따른 치수 안정성은 필름의 부착력과 일관성을 향상시킵니다. 타겟 표면은 우수한 매끄러움과 두께 균일성을 얻기 위해 정밀하게 연마됩니다. 모든 소재는 산화 및 오염을 방지하기 위해 진공 밀봉됩니다.
베릴륨 스퍼터링 타겟 사양
속성
융점
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1277 °C
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밀도
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1.848 g/cm3
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화학식
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Be
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순도
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99%, 99.9%
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형태
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평면 디스크
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화학 성분. %
원소
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함량
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Be
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잔여분
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F
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0.001
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Al
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0.013
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Si
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0.021
|
Ti
|
0.023
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Cr
|
0.029
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Fe
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0.15
|
C
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0.05
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O
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0.65
|
*위의 제품 정보는 이론적 데이터를 기반으로 합니다. 특정 요구 사항 및 자세한 문의는 저희에게 연락해 주시기 바랍니다.
크기: 맞춤형
베릴륨 스퍼터링 타겟 응용
- 반도체 및 마이크로일렉트로닉스 산업: 전도성, 버퍼, 또는 계면층과 같은 특정 기능성 필름 제조에 사용되며, 특히 높은 중량 및 열안정성이 요구되는 소형 장치에 적합합니다.
- 광전자 및 광학 부품: 베릴륨 필름은 레이저, 광학 센서 및 기타 장치용 고반사 반사 필름 또는 IR/UV 창 코팅을 만드는 데 사용됩니다.
- 항공우주 소재: 우주선 또는 위성 부품의 경량 고강도 코팅을 준비하여 열 제어 성능을 개선하고 구조 무게를 줄여줍니다.
- 방위 및 군사 기술: 열적 특성과 기계적 안정성을 활용하여 레이더, 적외선 이미징 또는 정밀 유도 시스템에서 사용됩니다.
- 핵 산업: 베릴륨은 중성자 반사기 및 감속제로서 핵 반응로에서 중요한 응용을 가지며, 타겟은 박막 제작 또는 관련 실험에 사용될 수 있습니다.
베릴륨 스퍼터링 타겟 포장
저희 제품은 소재 치수에 따라 다양한 크기의 맞춤형 상자에 포장됩니다. 작은 품목은 PP 상자에 안전하게 포장되고, 큰 품목은 맞춤형 목재 크레이트에 배치됩니다. 저희는 포장 맞춤화 및 적절한 완충 재료 사용에 엄격히 따르며, 운송 중 최적의 보호를 제공합니다.

포장: 상자, 목재 상자 또는 맞춤형.
제조 과정
1. 간단한 제조 과정 흐름도

2. 테스트 방법
- 화학 성분 분석 - 순도 요구사항을 보장하기 위해 GDMS 또는 XRF와 같은 기술로 검증합니다.
- 기계적 특성 테스트 - 재료 성능을 평가하기 위해 인장 강도, 항복 강도 및 연신율 테스트를 포함합니다.
- 치수 검사 - 두께, 너비 및 길이를 측정하여 규정된 공차를 준수하는지 확인합니다.
- 표면 품질 검사 - 비주얼 및 초음파 검사로 스크래치, 균열 또는 포함물과 같은 결함을 확인합니다.
- 경도 테스트 - 재료의 경도를 측정하여 균일성 및 기계적 신뢰성을 확인합니다.
베릴륨 스퍼터링 타겟 FAQ
Q1: 귀사의 베릴륨 스퍼터링 타겟의 일반적인 순도는 무엇입니까?
A1: 저희의 표준 베릴륨 스퍼터링 타겟은 99.9% 이상의 순도로 제공됩니다. 더 높은 순도는 요청에 따라 제공될 수 있습니다.
Q2: 타겟의 형태와 크기는 맞춤화할 수 있습니까?
A2: 네, 저희는 지름, 두께, 형태(원형, 직사각형 또는 링) 및 백킹 플레이트 통합을 포함한 완전한 맞춤화를 제공합니다.
Q3: 베릴륨은 취급하기에 위험합니까?
A3: 네. 베릴륨은 먼지나 연기로 흡입할 경우 독성이 있습니다. 모든 취급 및 가공은 잘 통풍되는 환경 또는 후드 아래에서 엄격한 안전 프로토콜에 따라 이루어져야 합니다. 저희 제품은 고형태로 배송되며, 노출을 방지하기 위해 진공 밀봉됩니다.
경쟁 제품과의 성능 비교표
베릴륨 스퍼터링 타겟 vs. 경쟁 소재: 성능 비교
매개변수
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베릴륨 (Be)
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알루미늄, Al
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구리, Cu
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티타늄, Ti
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밀도 (g/cm³)
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1.85
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2.70
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8.96
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4.51
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열전도율 (W/m·K)
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200
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237
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401
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21.9
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융점 (°C)
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1287
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660
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1085
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1668
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스퍼터링 속도
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보통 (최적화된 전력/가스 조건 필요)
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높음 (Ar 가스 하에 효율적)
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매우 높음 (높은 스퍼터링 수율)
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낮음 (높은 전력 입력 필요)
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필름 특성
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높은 경도, 낮은 스트레스, 높은 열 안정성
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낮은 저항, 연성
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높은 전도성, 연성
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높은 부식 저항, 생체 적합성
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입자 크기 균일성
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엄격한 공정 관리 필요 (나노 스케일 균일성)
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쉽게 조절 가능 (마이크로미터 스케일)
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독성/안전
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높은 독성 (엄격한 취급 필요)
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낮은 독성
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비용 (단위 질량 기준)
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아주 높음 (희귀 소재 + 복잡한 가공)
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낮음
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핵심 응용
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핵 시스템, X-선 윈도우, 항공우주 코팅
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반도체 인터커넥트, 거울
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IC, 전도성 층
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생체의학 코팅, 부식 저항층
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관련 정보
베릴륨 (Beryllium) 원소 개요
베릴륨은 1798년 프랑스 화학자 보클랭(Vauclain)에 의해 발견되고 명명된 가벼운 금속 원소입니다 (원자 번호 4, 기호 Be). 주기율표에서 두 번째로 가벼운 금속으로 밀도는 1.85 g/cm³이며, 베릴륨은 체중 대비 현저한 성질을 보여줍니다: 287 GPa의 탄성 계수를 가지며, 이는 강철보다 여섯 배 더 강력하며, 매우 높은 열전도율(200 W/m-K, 은, 구리 및 금 다음)을 보입니다. 이러한 “낮은 밀도, 높은 강성, 높은 열전도율”의 조합은 극한 산업 시나리오에서 “스타 소재”로 인정받습니다. 그러나 독성, 높은 비용 및 가공의 어려움은 그 응용 분야를 제한합니다.
핵심 속성 및 과학적 가치
낮은 원자 번호의 침투 이점
베릴륨 원자는 4개의 양성자(Z=4)를 포함하며 X선 및 중성자에 대한 매우 낮은 흡수율을 가지고 있습니다. 이러한 특성은 동위원소 방사선 기기, X선 윈도우 및 핵 반응로의 이상적인 중성자 반사층으로서 핵심 소재입니다. 예를 들어, 의료 CT 장치의 X선 탐지기 창이 알루미늄이나 유리로 만들어질 경우 이미징 해상도가 크게 저하됩니다. 반면 베릴륨 창은 두께가 1mm 이하로 매우 얇으면서 손실 없는 광선 침투를 달성할 수 있습니다.
극한 환경에서의 안정성
베릴륨은 1,287 °C의 융점을 가지며 고온에서 베릴륨 산화물(BeO)의 보호층을 유지하여 알루미늄 및 마그네슘과 같은 경량 금속에 비해 부식 저항성이 크게 향상됩니다. 이 특성은 로켓 노즐의 고온 저항 코팅 및 핵 연료봉의 외장 재료에 사용되도록 하였습니다. 미국의 화성 탐사 로버인 큐리오시티는 극한 온도 및 방사선 환경에서도 견디기 위해 베릴륨 합금을 사용하여 핵 배터리(RTG)를 운용합니다.
항공우주에서 대체 불가능한 역할
위성과 우주망원경 디자인에서 베릴륨의 높은 비강성(강성/밀도)은 경량성과 구조 강도 간의 균형을 해결합니다. 예를 들어, 제임스 웹 우주 망원경의 18개 주요 거울은 베릴륨으로 만들어져 있습니다. 깊은 우주 환경(-240 °C)에서 변형이 거의 없어 기존의 유리나 세라믹으로 제작된 거울은 열 팽창 및 수축으로 인해 이미지를 왜곡할 수 있습니다. 유사하게, 대륙간 미사일의 관성 항법 자이로스코프는 고속에서 치수 안정성을 보장하기 위해 베릴륨 부품에 의존하고 있습니다.
응용 및 도전 과제
베릴륨의 산업 응용은 고급 “반드시 필요한” 영역에 매우 집중되어 있습니다:
핵 및 방위: 중성자 감속기, 핵폭탄 시작기(베릴륨의 광자-중성 반응 특성 활용);
정밀 광학: 고에너지 레이저 거울, 적외선 열 이미징용 거울 베이스;
특수 합금: 2% 베릴륨이 포함된 베릴륨-구리 합금은 높은 강도와 비발화성을 결합하여 석유 및 가스 드릴링 도구에 사용됩니다.
사양
속성
융점
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1277 °C
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밀도
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1.848 g/cm3
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화학식
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Be
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순도
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99%, 99.9%
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형태
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평면 디스크
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화학 성분. %
원소
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함량
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Be
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Bal.
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F
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0.001
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Al
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0.013
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Si
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0.021
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Ti
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0.023
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Cr
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0.029
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Fe
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0.15
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C
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0.05
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O
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0.65
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*위 제품 정보는 이론적 데이터에 기반합니다. 특정 요구 사항 및 자세한 문의 사항은 저희에게 연락하십시오.
크기: 맞춤형